二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9263425 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA雙作用反應器是專門為CVD處理而設計的熔融二氧化矽內冷等離子體反應器。該反應器是先進半導體器件制造的先進沈積設備.它同時使用紫外線（UV）和根本活化的等離子體，產生一個均勻沈積的材料，適合於超薄的柵極電介質和導電層。AMAT ENDURA雙作用反應堆是一種用途廣泛、效率高的反應堆，能夠控制沈積在直徑達300毫米的基板上。它具有兩個單獨操作的等離子體源，一個位於腔室頂部，一個位於腔室底部。兩種等離子體源均可獨立調整，以控制工藝室內的工藝參數和沈積。頂部等離子體源為低溫氮化矽，由氮化鋁（AlN）窗口屏蔽，由2.4 kW射頻發電機供電。底層等離子體源是內部冷卻、感應耦合的射頻電源，溫度範圍為219-1200 °C。雙作用系統允許對沈積過程進行更大程度的控制，使用戶能夠調整其過程，使之與較大的基板相比具有更大的統一性。兩個等離子體源中的每一個都是獨立控制的，以定制過程，可以在總腔室壓力、等離子體功率、源壓力等方面進行調整。反應堆還具有自動化功能，如超過工藝參數時自動關閉，為用戶提供了更加安全高效的等離子體工藝。APPLICED MATERIALS ENDURA雙作用反應器具有高度可靠的基板和晶圓處理元件,以及先進的機器人運動控制系統,可實現整個處理的完全自動化。該反應器的設計旨在支持三個主要領域的優化--反應性、溫度和沈積速率。它效率高，沈積材料使用率低，相對於其他解決方案降低成本。ENDURA雙作用反應堆是一種創新的、最先進的等離子體沈積系統，為半導體工業提供了極好的均勻性、改進的工藝控制和成本節約。它具有優異的性能和可靠的性能，是柵極電介質和金屬層沈積等先進應用的絕佳選擇。該反應堆非常適合先進的半導體器件制造，為最苛刻的工藝提供最大的吞吐量和可靠性。