二手 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9266968 待售
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ID: 9266968
晶圓大小: 8"
PVD System
Load lock: Narrow body (Automated)
Buffer robot: HP
XFER Robot: VHP
Chamber-A: Pass-tru
Chamber-B: Cool
Chamber-C: PC2
LEYBOLD Turbovac 361C Turbo pump
Chamber-D: TiN
Body: Wide
Magnet: K3/P4 Source
Pedestal: 101
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
DC Power missing
Chamber-E and F: Orienter-Degas
Chamber-L: Gamma II TI
Body: Wide
Magnet, P/N: 0010-20328
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
DC Power:
Master: MDX-L12M-650
Slave: MDX-L12M-650
Chamber-2: AL
Body
Magnet, P/N: 0010-20328
Pedestal: Clamp
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
Chamber-3: Ti
Body: Wide
Magnet, P/N: G12 0010-20225
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
Chamber-4: TiN
Body: Wide
Magnet: G12
Pedestal: 101
CTI-CRYOGENICS On-Board cryo pump
DC Power:
Master: MDX-L12M
Slave missing.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor是用於制造半導體電路板的大型真空處理裝置。具體來說，AMAT ENDURA反應堆被用於CVD（化學氣相沈積）工藝，這是現代半導體元件生產的關鍵一步。應用材料ENDURA反應器由四個主要部件組成：真空室、工藝入口和出口、氣體輸送設備和控制系統。真空室是一種密封容器，設計用於保持室內最大的清潔度和真空水平。工藝入口和出口提供從環境進入腔室的通道，允許氣體進入，並在工藝周期結束時清除產品。氣體輸送單元用於將特定的惰性和反應氣體註入反應堆腔室，然後在CVD過程中與底物材料相互作用。最後，控制機允許操作員對腔室的設置、氣體輸送和工藝參數進行精確監控，以保證產品的一致性和高質量。ENDURA反應堆的特點使其成為制造先進半導體元件的理想選擇。它可以達到高達1000 °C的溫度，允許反應氣體在原子水平上與底物相互作用，形成復雜的結構，如高K電介質和其他復雜材料。AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA也針對高通量進行了優化，允許在CVD生產中快速加工晶片/基板。對反應堆環境和工藝參數的精確控制能夠獲得準確和可重復的結果，而綜合安全系統則始終確保操作員的安全。總體而言，AMAT ENDURA Reactor是為制造半導體器件的CVD工藝而設計的先進真空處理工具。其精確的控制和堅固的功能可實現準確和可重復的性能,使其成為高級制造過程中可靠且最佳的選擇。
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