二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Etch chambers for Mark II #9262213 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Mark II蝕刻室是一種為化學過程而設計的氣體蝕刻反應器。這個反應堆使用了一種叫做化學-氣相沈積處理（CVD）的方法，以便在電子器件上形成薄膜。特別適合工業生產，可容納0.25mm至6英寸的多種晶片。蝕刻室的設計允許高效傳遞熱量和去除副產品。它由一個包含蝕刻室、射頻發生器、供氣器和真空設備的不銹鋼滾筒組成。其中包括一個環境控制系統，該系統維持設備內所需的溫度和壓力，並提供惰性大氣。這臺機器用於控制晶圓的溫度，供應蝕刻氣體，並疏散腔室。蝕刻室用氮冷卻，氣體加熱到125 °C左右，這取決於工藝要求。蝕刻氣體在腔內均勻流動，並通過校準的微管結構保持平衡。一個連接到腔室的射頻發生器用來創建一個更高能量的電場，激活氫和氧蝕刻氣體分子，使分子與晶圓材料反應。射頻發電機本身由直流電源供電，可以設置為創建強度和頻率不同的交替磁場。這允許精確調整蝕刻速率。它還允許移除蝕刻過程中創建的副產品，使它們在後續操作中不會與晶圓發生反應。腔室壁塗有特殊的介電材料，以確保射頻能量不會泄漏出腔室，並幹擾其他組件。RV濺射室也可用於在晶片上沈積金屬層，以保護晶片在蝕刻過程中。還可以在工具中加入離子源，為晶圓表面提供額外的腐蝕保護。總體而言，Mark II的AMAT蝕刻室適用於各種蝕刻工藝。它是為穩定、易於維護、精確以及溫度和壓力控制而設計的。它也是高效率的，允許去除蝕刻過程中產生的副產品。