二手 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK #293608989 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK是一種高性能蝕刻/氧化反應器，能夠進行廣泛的蝕刻、沈積和氧化過程。高度可配置的設備包括步進電機和高速、高分辨率的多軸掃描儀，使其成為等離子體蝕刻、反應性離子蝕刻（RIE）、濺射、氧化和薄膜沈積等工藝的理想選擇。AMAT G5 MESA HPK的設計目的是在晶圓上提供最大的工藝均勻性。該單元的主要部件為腔室、氣體處理系統和真空單元。該腔室由不銹鋼制成，帶有石英視孔，可用於查看加工過程。為確保最大均勻性，腔室配備了多區氣體分配機、多點射頻發生器和多天線設計，以及微波電源，使每個天線都能獨立控制頻率。該工具還具有先進的計算機控制資產，能夠通過WaferWorks軟件控制模型。該軟件允許用戶輕松調整腔室壓力、晶圓溫度、射頻功率水平和天線參數等參數。此外,軟件還監視反應活動和診斷程序,以確保所有進程都能順利運行。APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK的氣體處理設備設計為提供準確和可重復的結果。它能夠控制質量流量控制通道和源閥門，混合各種源的明確定義的氣體。該系統允許各種測試氣體和蝕刻化學物質，確保用戶能夠根據具體需要和應用定制其工藝。G5 MESA HPK還具有真空單元，包括離子泵、吸氣室、冷凍泵和渦輪泵。這些系統的組合允許高真空水平，確保所有反應活動都發生在超低汙染環境中。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA HPK是一種先進的蝕刻/氧化反應器，非常適合各種工藝。從等離子體蝕刻、濺射、氧化和薄膜沈積，到先進的計算機控制和精密的氣體處理和真空系統，這臺高性能的機器確保用戶在其晶片上達到最高水平的均勻性和可重復性。