二手 AMAT / APPLIED MATERIALS G5 MESA #9311195 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA（金屬蝕刻和選擇性沈積原子層）是一種用於半導體制造的等離子體反應器。它使用多種不同的工藝來沈積、圖樣、蝕刻和鈍化材料、特征和基板表面的金屬層。AMAT G5 MESA采用三大原則運作。第一個原理是多模操作，允許反應器用於各種晶圓制造過程，如光刻、蝕刻、沈積。第二個原理是多種金屬化化學的原理，這使得反應堆能夠創造出適合制造需要的高質量金屬層。最後，第三個原則是增強材料兼容性，這使得不同的材料可以在反應堆中使用，以滿足客戶的要求。整體結構方面，APPLIED MATERIALS G5 MESA等離子體反應堆設計有三個腔室，每個腔室都有自己的工藝腔室、真空泵、氣體輸送系統、氣體控制系統。化學傳遞和反應由工藝室的Shutterless Technology精心策劃，該技術采用基於快門的蝕刻和沈積控制。這樣可以通過變化的工藝參數（如壓力和氣流）來精確調整工藝。G5 MESA的工藝室還容納了反應堆的先進等離子體源，允許該室在低溫低壓下運行。這使得AMAT/APPLIED MATERIALS G5 MESA能夠有效沈積和蝕刻不同類型的金屬層，而不會損害材料的表面特性。此外，AMAT G5 MESA還有一個集成的數字平板掃描儀，能夠準確監測和控制正在處理的層。Advanced Materials APPLIED MATERIALS G5 MESA等離子體反應堆是一種通用工具，能夠制造高質量的金屬層。其先進的技術和功能使其成為尋求創建強健、精確和高性能組件的制造商的絕佳選擇。G5 MESA具有低溫操作和增強的材料兼容性,是滿足許多制造要求的理想解決方案。