二手 AMAT / APPLIED MATERIALS H20 VDSII #293647380 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS H20 VDSII是一種用於半導體加工的高性能、具有成本效益的化學氣相沈積（CVD）設備。該反應器設計用於薄膜在低溫和最小汙染和氣體載荷下的沈積。該系統的組件包括一個向工藝室供電的電源、一個真空泵、一個反應物進料單元和一個工藝廢氣。電源是一個DC/AC轉換器,能夠在500伏時提供高達30 amps的電流。真空泵是一種渦輪分子泵，分別提供2.5e-7 torr和5e-7 torr的基礎和源真空壓力。反應物進料機有精密的流量控制閥和泵，過程排氣是一種多噴嘴擴散工具，從反應堆中去除反應產物和顆粒。AMAT H 20 VDSII能夠執行一系列的CVD過程，包括直接和選擇性CVD、濕氧化和氮化物鈍化。沈積溫度範圍從室溫延伸至850 °C，沈積速率為6-8microns/minute，視工藝條件而定。資產最多可容納16加斯線，允許處理各種材料。該反應堆旨在最大限度地提高工藝的可重復性和盡量減少維護需求。它有一個自動晶圓翻新模型，其中晶圓從負載站轉移到翻新站，以便從以前的工藝中清除任何顆粒汙染。該設備還具有一些安全功能，如地面故障傳感器，以保護人員和資產。APPLICED MATERIALS H20 VDSII優越的設計確保了各種基材的最大加工效率和均勻性。其能效、氣體負荷最小、工藝窗口寬，是半導體薄膜沈積的理想系統。這個具有成本效益的單元適用於研發和商業生產應用。