二手 AMAT / APPLIED MATERIALS HTHU #185712 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS HTHU（高溫/高通量超高真空反應堆）是為高級研究應用開發的超高真空沈積設備。它使用先進的超高真空沈積系統，允許在超過1450 °C的溫度下將薄層材料沈積到基板上。這使得該系統非常適合生長的III-V化合物半導體、石墨烯和氮化硼等應用。AMAT HTHU由反應器室和蒸發源兩個主要組成部分組成.反應堆室由不銹鋼制成，設計為保持1E-6 torr的真空（低於正常大氣壓）。反應堆室內是蒸發源，用於將材料樣品濺射或蒸發到基板上。蒸發源中還包括離子槍，用於蝕刻、清洗和修飾基板表面的材料。蒸發源利用RF（射頻）電源進行材料蒸發，可以在電子束和CVD（化學氣相沈積）之間切換。這允許在沈積過程中控制基板溫度、通量和壓力，允許控制材料厚度和形態。此外，廣泛的參數控制可以優化沈積過程，提高擴散速率，提高膜的均勻性，提高膜的附著力。為了確保沈積過程中的精確度和準確性，使用單元MFC（質量流控制器）來調節壓力，允許反應堆內混合氣體的良好控制流動。這種溫度和壓力控制的結合，以及高溫能力，使得極可靠的結果。此外，應用材料HTHU配備了一個負載鎖定設施，以確保在裝入反應堆室之前有效地準備基板。這一特性還允許基板快速循環，提高整體機器吞吐量。總之，HTHU高溫/高通量超高真空反應器是研究應用的先進沈積工具。它具有先進的射頻蒸發、離子蝕刻，以及高度精確的溫度、壓力和通量控制能力，允許完全控制沈積過程。其載荷鎖定特性使基板能夠高效循環，使其高效可靠。