二手 AMAT / APPLIED MATERIALS MOCVD HP+ chamber #9046115 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS MOCVD HP+室是一種金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）反應器，旨在使InP、GaAs、GaN等高性能半導體材料生長。HP+腔室的獨特設計為制造商提供了對工藝的高度控制,從而能夠精確控制材料的質量和增長率。HP+腔室設計有兩個獨立操作的反射器電子束源，一個頂部和底部。這些源優化了沈積過程的均勻性，因為每個源都可以單獨調整，以補償基質本身引起的均勻性的任何變化。此外,還可以拆卸反射器,以便快速清洗和維護。源組件還包括一個獨特的獨立射頻偏置源,可以精確控制材料的組成和厚度。HP+室的反應室設計為最大均勻性。腔室呈橢圓形，允許反應性物種對稱均勻分布。此外，該腔室被封閉在高溫夾套中，將其與環境汙染物隔離開來，從而降低沈積的均勻性。該反應室增加了幾個附加特性，顯著提高了HP+反應室的性能。在腔室頂部安裝了一個超快速機械關閉（UFMO）快門,可以在幾分鐘而不是幾小時內停止該過程。外部沈積監測系統提供對沈積過程的實時監測，能夠在基板受到影響之前主動采取快速糾正行動。包括自動氣流控制系統和溫度控制系統，以精確控制沈積條件。HP+腔室還具有多項高級安全功能。兩階段鎖定鑰匙可確保萬一出現緊急情況時的最大安全性。在第一階段，關閉快門以阻止氣體流入腔室。第二階段，切斷進氣管線，確保完全斷氣。總體而言，AMAT MOCVD HP+腔室為高性能半導體材料的制造提供了強大可靠的解決方案。其獨特的設計允許精確控制沈積過程，從而產生更高質量的材料，提高產量。此外，其先進的安全特性保證了過程的安全性和機器的操作者。