二手 AMAT / APPLIED MATERIALS MxP+ #293749250 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS MxP+反應堆是一種創新的基於等離子體的設備，旨在為集成電路、半導體和光電子的開發和生產提供精確的等離子體控制過程。它具有先進、強大的等離子體控制能力，以確保晶圓在低壓和大氣壓力等離子體蝕刻、濺射和沈積過程中的處理質量。AMAT MxP+反應器包括一個主室和二室,具有獨特的旋轉磁控管源,可提供直接觀察侵蝕影響的衍射成像,在等離子體過程中提供均勻性和可重復性。此外，APPLIED MATERIALS MxP+系統擁有集成的精密工藝控制技術，有助於確保蝕刻、沈積和濺射工藝的最高精度。該設備采用內部電氣診斷技術進行設備結構蝕刻過程中的精密脈沖控制和調制，結合其可轉動源，可以優化蝕刻輪廓。有了有效的反應室，MxP+反應器是需要高通量、精確均勻性、重復性的蝕刻工藝的合適選擇。此外,該設備還提供一系列反應性氣體,允許靈活的過程控制和調整。該設備還提供靈活性，當涉及到腔室清洗和變化的應用。墻面調節可采用可選的鈍化技術，而最小化的粒子生成有助於確保清潔的等離子體環境。AMAT/APPLIED MATERIALS MxP+反應器也是濺射過程的理想選擇，因為它具有較大的目標面積，具有較高的沈積速率，適合多種沈積材料，包括高縱橫比結構。最後，AMAT MxP+反應器代表了反應性離子或等離子體沈積過程的理想選擇，用於薄膜沈積、保護塗層和屏障層，或用於改變底物表面能量。它易於達到較高的沈積速率，並配有化學計量控制裝置，確保前體與亞基沈積物精確反應。綜上所述，應用材料MxP+反應堆具有精密的工藝控制技術、優異的等離子體工藝重復性和均勻性、靈活的反應性氣體選擇、高沈積速率和屏障層性能，為多種設備加工應用提供了一種強大而可靠的機器。