二手 AMAT / APPLIED MATERIALS / NESLAB TiN Chamber for Endura #293660464 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS/NESLAB TiN Endura室是一個用途廣泛、最先進的反應堆，用於在原子水平上制造材料。該腔室具有較高的腔室均勻性，能夠使用適當的原子層沈積（ALD）輸送均勻的氮化鈦（TiN）膜，這是一種應用於各種底物的硬膜。為與AMAT Endura旗艦系統配合使用而設計的TiN Chamber包括易於使用的功能,可最大限度地縮短曝光時間並最大限度地提高生產效率。TiN Chamber具有高科技軟件和技術,可在ALD塗層中對各種形狀和尺寸的基板進行精確控制。這項卓越的技術還包括優化塗層材料均勻性和目標性能的程序。設計的TiN腔室還具有卓越的均勻性、調溫性能和出色的薄膜質量。此外，這種TiN腔室在沈積過程中提供了出色的晶圓平坦度，同時也在過程中提供了出色的傳熱。TiN腔室可提供高達400 nm/小時的高沈積運行,而不會降低均勻性。NESLAB TiN Chamber for the Endura is the perfect solution for industry and research factions that required advanced technology solutions for coating substates with milms of TiN.該腔室是微電子和光電應用的理想選擇，如氧化物基板、氧化物半導體、光學器件等的研究。Endura設備的TiN Chamber也設計用於用元素特定前體制成的薄膜。這有助於確保統一的結果和統一的性能。再者，TiN腔室包括一個集成的負載鎖，允許同時處理多個晶片，從而使吞吐量最大化。AMAT TiN Chamber for Endura還提供了許多高級功能,例如可變氣體監測系統、用於安全基板處理的氣體清除單元、可持久構建的硬件組件以及用於在整個腔室中重新分配的高效熱力機。綜上所述，用於Endura的APPLICED MATERIALS TiN Chamber提供了可靠和先進的原子層沈積（ALD），在各種底物上提供了均勻的氮化鈦薄膜。此腔室的設計有助於最大限度地提高吞吐量,縮短曝光時間,並確保其集成的負載鎖定和其他功能的一致性。