二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Oxide chamber for MxP+ #293656757 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS氧化物室MxP+是一種化學氣相沈積（CVD）反應器，用於將二氧化矽薄膜沈積到半導體組分上。氧化室有一個由盤繞的Pt/Ti燈絲包圍的溫度控制石英管，允許精確和均勻的溫度控制，而自動產生的等離子體則是由13.56MHz高頻電源形成的。氧化室內部引入矽烷（SiH4）、氫氣（H2）、氧氣（O2）等前體氣體，並通過加熱的石英管。隨著氣體進一步進入管中，它們蒸發，然後反應形成二氧化矽。氣態反應被等離子體部分催化。反應過程將氣體分子分解成自由基，碰撞時通過高溫氧化、還原和均質成核過程迅速轉化為二氧化矽。氧化物室的薄膜生長過程受到高度調節，各種工藝周期的參數都是可調的。這些包括前體氣體註入速率、等離子密度、腔室壓力和冷卻速率。控制這些參數允許氧化膜中的不同性質，如密度、均勻性、粗糙度和其他特征。氧化室被設計為生產高質量、低應力的氧化層，並被用於許多行業，包括微電子、汽車、航空航天。這類腔室已被證明可用於制造比其他類型的沈積過程具有較高的耐腐蝕性、較高的溫度穩定性和較低的介電常數的組件。AMAT Oxide chamber for MxP+是一種用途廣泛的工具，用於許多應用。該反應器具有可靠的性能、可控的工藝參數和穩定的氧化膜沈積能力，是許多類型二氧化矽膜沈積需要的理想選擇。