二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD #9161551 待售

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ID: 9161551
優質的: 1995
System Singlewafer multichamber Both chemical vapor deposition (CVD) and etching Handle 8” Silicon wafer Power rack Original PC (4) chambers: (2) For CVD (C2F6, SiO2, NF3, He, and TEOS) (2) For etching (CF4, Ar, SiO2, O2) 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD反應堆是一種直觀且用途廣泛的致密化反應堆,專為多種應用而設計。P5000 Mark II是一種化學氣相沈積(CVD)系統,配有多個工藝室進行工藝優化。AMAT P5000 Mark II CVD具有精密設計的大量功能,可實現高效、精確的沈積。其多室設計可用於屏障膜、硬質塗層、擴散控制介電膜等應用的工藝參數優化。多腔室設計允許每個腔室有不同的溫度狀態,從而能夠同時處理多個應用和沈積。此外,應用材料P5000 MARK-II CVD改進了工藝控制,因為任何工藝變化都可以根據其要沈積/制造的材料特性進行調整。MARK-II CVD除了性能增強外,還P5000確保安全。它配有高分辨率溫度傳感器和加熱距離控制,以維持工藝室大氣,保護操作員安全,同時提供最佳溫度控制。P5000 Mark II CVD中的其他功能還包括排氣連接和閉環系統,以監測和幫助清除過程中的有機化合物。這有助於保證有機廢水不會逃逸到環境中。此外,APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD還具有可調節的加熱元件,以實現最佳性能和工藝控制。其構造特點是外殼壓板,提供了整個工藝室的均勻溫度分布,從而提高了性能,延長了生產運行時間。綜上所述,AMAT P5000 MARK-II CVD反應器是一個直觀而有效的系統,設計用於細膩的沈積和過程,如屏障膜、硬質塗層和介電膜。它配備了多應用處理的各種工藝室等豐富的特點和優化性能的可調加熱元件。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MARK-II CVD也通過使用溫度傳感器和閉環系統來提供安全,以減少有機廢水進入環境。采用外殼壓板的結構確保了可靠的工藝效果和高效的生產運行,使其成為CVD應用的最終選擇。
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