二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #9051380 待售
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單擊可縮放
ID: 9051380
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
CVD Systems, 8"
(3) Chambers
Wafer type: Notch
Vacuum processing type
MFC:
Gas #1: SIH4 200 sccm
Gas #2: N2 10 slm
Gas #3: NH3 100 sccm
Gas #4: NF3 1 slm
Gas #5: N2O 3 slm
Gas #6: CHF4 3 slm
Gauges:
(2) MKS 122BA Baratron, 10 torr
MKS 628A Baratron, 10 torr
Includes:
AD TEC Generator AX-1000AM2
AMAT Matcher
AC Rack
Gas box
(2) Chillers
Heat exchanger
(3) Dry pumps
Mainframe
PC Rack
GEN Rack
(2) Regulator boxes
(2) FAPC Racks
(9) Accessory boxes
(2) Power boxes
(3) RF Power supplies
AMAT-0 H / E
(2) Panels
(3) Columns
Abatement system
(2) Column boxes
(3) Abatement filter
Transformer
(3) Gas detectors
Currently stored in cleanroom
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J反應堆是一種強健、高性能的PECVD設備，用於電介質、半導體和金屬薄膜的沈積。該反應堆配有射頻（RF）電源，能夠以降低的性能沈積薄膜，從而大幅降低材料成本。它專為半導體器件制造而設計，非常適合用於研究實驗室和工業工廠。AMAT P5000 MarkII-J利用單晶片設計,提供可靠且均勻的薄膜均勻性,並在每個晶片上具有極好的可重復性。該設計允許完全統一,比其他系統提供更好的性能。該系統具有雙冷壁，能夠在晶片上沈積介電材料和半導體材料時，產生具有優異堆積密度的高質量低應力薄膜。它還能夠通過金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）沈積金屬氧化物。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J配備了高級退火功能以確保過程控制。該裝置采用主動溫度監測和嵌入式控制器提供均勻的溫度控制，以提高溫度精度。它還配置了一個集成的遠程室,以提供額外的監視和診斷功能。該設計還提供了卓越的效率，因為它最大限度地提高膜沈積速率高達20nm/min，並且在晶片之間具有一致的均勻性。P5000 Mark II-J具有堅固的工藝室和易於維護的模塊化設計。這允許快速修復時間和最小的停機時間。該機還配有一系列配件，包括自動掃描儀、射頻源、超靈敏光學傳感器和輔助供氣。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J結合了先進的監控和診斷功能、堅固的設計和高性能,成為一種強大可靠的反應堆,可用於半導體器件、介電膜和金屬氧化物沈積等應用。
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