二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J #9389976 待售

看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。

ID: 9389976
WCVD System, 8" (2) Pressers (2) MITSUBISHI Diamond scan monitors Monitor box Generic LCD Unit (2) Step tools Cables included Missing parts: (2) RF Matches (2) Heaters (4) Lift Pins SBC Heater driver NESLAB H-EX Chiller Dry pumps 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J是一種最先進的多室金屬有機物化學氣相沈積(MOCVD)反應器,設計用於生產高純度、高性能半導體材料的薄膜和層,如砷化氙(GaAS)和磷化銨(Gosphide)。AMAT P5000 Mark II-J可以將材料層沈積到直徑達4.7英寸的晶片上,並提供多種工藝氣體和溫度。APPLICED MATERIALS P5000 Mark II-J的櫥櫃式垂直設計提供了多種配置,包括單蓄電池和環形反應堆。其先進的熱控工藝技術在高達1100C的溫度下運行,以實現超厚、低缺陷的薄膜。P5000 Mark II-J是為最大產量而設計的,通過使用先進的部件和優化的氣流提高了吞吐量和容量。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J也有幾個功能來確保準確的過程結果。熱傳感器陣列測量沈積室的溫度,並被編程為在晶圓表面保持精確控制的均勻溫度。集成閉環氣體反饋系統提供可靠、準確的過程控制,有助於確保可重復的結果。AMAT P5000 Mark II-J還提供了一系列先進的安全功能,如高溫關閉閥和排氣筒,用於清除沈積過程中產生的氣體或蒸氣。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II-J可以在直接或遠程模式下操作,給用戶一定程度的靈活性。內置加熱器和風扇在運行過程中提供額外的安全性。綜上所述,P5000 Mark II-J是一種高度先進和可靠的MOCVD反應器,旨在生產高純度、高性能半導體材料的薄膜和層。它提供了廣泛的工藝氣體和可控溫度,以及諸如熱傳感器陣列、閉環氣體反饋系統以及內置加熱器和風扇等功能,以確保操作安全。
還沒有評論