二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP+ #9082547 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP+
ID: 9082547
晶圓大小: 8"
Oxide etcher, 8" (3) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II MxP+是一種高性能、多室等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)反應堆設備。它是AMAT的下一代P5000系列先進等離子體系統,旨在將包括氧化物、氮化物和碳化矽(SiC)在內的高質量薄膜沈積到直徑達200毫米的半導體晶片。AMAT P5000 Mark II MxP+是一個全自動、多腔系統,利用先進的等離子體技術和先進的工藝控制能力提供一致的薄膜沈積,即使在最薄的半導體晶片上也是如此。該單元由多個獨特的組件組成,這些組件協同工作,為用戶提供最大的靈活性和性能。機器的核心是集成的多室等離子體源,它能夠根據基板要求在一定頻率和功率水平範圍內產生等離子體。這一組件允許更高的沈積速率和均勻性,使得該工具甚至適用於最薄的基板。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II MXP+配備高壓輸送資產,用於卓越的工藝控制,確保整個晶圓的均勻性。它的集成閉環模型還可以感應過程參數並進行調整,以考慮沈積過程中可能發生的不一致,例如溫度變化。隨附的自動化設備提供了統一的用戶界面,簡化了操作參數配置和過程控制。該系統包括高級軟件工具和用戶友好的配方,允許用戶根據自己的確切規格自定義其流程參數和設置。此外,該單元還包括一系列附加選項,如先進的氣體輸送機(GDS)和可噴灑氣體供應,可提供進一步的定制和最大的多功能性。這些附加組件使用戶能夠輕松配置工具以滿足其特定的工藝需求,從而優化沈積結果。P 5000 MARK II MXP+設計為高效,為所有沈積過程提供高精度和可重復性。對於尋求高性能、經濟高效、多室PECVD解決方案的用戶來說,此資產是一個絕佳的選擇,它的許多高級功能使其成為尋求盡可能高質量結果的用戶的理想選擇。
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