二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #156342 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反應堆是一種用於制造半導體器件的高性能沈積設備。它是一個熱壁、單晶片、金屬有機化學氣相沈積（MOCVD）反應器。該系統旨在提供卓越的過程靈活性和質量,同時仍能提供良好的一致性和結果可重復性。AMAT P5000 Mark II反應器是金屬氧化物半導體（MOS）場效應晶體管（MOSFET）和相關復合半導體器件等半導體器件制造工藝的理想選擇。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II單元具有先進的反應技術和多級自動化控制與管理。隨著機器，晶片可以在單晶片模式或批量明智的處理。該工具提供了良好的過程可重復性、穩定性和統一性。該資產還可用於在同一進程室中單個運行中制造多個設備層。P 5000 MARK II反應堆能夠處理從450°C （842°F）到950°C （1742°F）的溫度。它的最大過程壓力範圍高達5 Torr（0.66大氣壓）。氣體流速和單晶圓均勻性在整個沈積過程中均可調節。該模型可配備多達十六個氣體輸送源，可以獨立編程，以實現最大程度的工藝靈活性。該設備還為清潔過程提供了較低的顆粒速率。AMAT P 5000 MARK II反應堆具有四臂機器人系統和具有碳化矽（SiC）噴嘴的高效冷卻單元。此外,該機器還提供超低的顆粒速率、卓越的工藝可重復性和延長的部件壽命,特別是在復合半導體器件的增長方面。它可以與多種材料一起使用，包括砷化銨（GaAs）、磷化銨（InP）、砷化鋁​​合鋁（AlGaAs）和其他III-V化合物。該工具還具有先進的自動加載程序,具有晶片到晶片的過程可重復性,可確保不同晶片之間的均勻性,且操作人員的幹預最少甚至沒有幹預。自動裝載機還包括一項資產，用於在進入腔室前幹燥濕加工過的晶片。P5000 Mark II反應堆還帶有配方和故障可追蹤性模型，可以實現更好的過程控制和精細的數據分析。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II反應器使半導體器件制造商能夠快速準確地執行廣泛的工藝和制造任務,具有比以前更高的工藝重復性和均勻性。設備的特性和功能使其成為任何半導體應用的寶貴工具。