二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293596177 待售

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ID: 293596177
晶圓大小: 5"
Oxide etcher, parts machine, 5" (2) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反應堆是一個生產級化學氣相沈積(CVD)平臺,在一個腔室中有多個來源和過程。AMAT P5000 Mark II反應堆具有較高的沈積速率、可控的均勻性和可容納各種工業相關材料的平滑工藝坡道。該設備可以處理廣泛的材料系統,並被證明能夠產生光滑和均勻的層,即使在納米尺度。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II系統設計用於工藝工程和高級應用.其旗艦特色包括一個大的4英寸方形腔室、中頻ECR等離子體、介電屏障放電等離子體,以及一個高容量的氣體面板全部容納在一個單元中,允許優越的均勻性和一致性。該機還提供快速的工藝斜坡上升、改進的汙染控制以及生產高質量薄膜時的效率,包括多層導電和絕緣薄膜。該模型提供了卓越的均勻性、快速的工藝提升和卓越的汙染控制,實現了復雜的沈積步驟和改進的薄膜質量。AMAT P 5000 MARK II工具上有多種工藝,如化學氣相沈積、原子層沈積等。該資產還結合了集成氣體輸送模式,具有優越的凈化管理、雙源控制和序列控制。設備配備了集成的兆赫茲速率接口和數字象限顯示屏,有助於確保過程控制,有助於建立過程窗口和級別。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II反應堆是研發的理想工具,提供了生產先進復雜薄膜成本效益所需的精確度和敏捷性。它在大面積上提供高吞吐量和無與倫比的均勻性,使用戶能夠生產對均勻性、厚度和結構有無限控制的多層薄膜。該系統滿足了廣泛的納米加工和材料創新的要求,使研究人員能夠開發出半導體、硬盤和光學存儲設備的新應用。
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