二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293620069 待售

AMAT（應用材料）AMAT/應用材料P5000 Mark II是用於薄膜沈積的等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）工具。Mark II是一個電容耦合反應器，有兩個獨立的射頻源，一個級冷卻設備，兩個負載鎖和兩個獨立的真空室。這兩個腔室可以串聯使用，也可以並聯使用，允許用不同的配方處理廣泛的反應性氣體。載荷鎖包含石英針式樣品支架，能夠在不破壞真空的情況下快速裝卸晶片。AMAT P5000 Mark II的主室存在於TITAN™反應堆腔內。該腔由不銹鋼制成，並填充有感應耦合等離子體（ICP）工藝源，從而能夠控制等離子體源參數。ICP源在13.56MHz和27.12MHz之間具有三個可編程頻率，從而可以精確控制等離子體放電特性。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II還具有用於下腔的冷卻系統,可用於敏感過程的溫度控制。Mark II為低（2-5mTorr）至高真空（10-6-10-7 Torr）工藝提供了處理能力。它為每個腔室提供擠壓閥，並可配備氣體轉運器，用於氣體預處理和可重復氣體組成率。該單元還支持各種氣體，包括O2、H2、Ar、He、N2、NF3、CF4和SiH4。氣體轉運器提供入口過濾器，當選擇某些組件時提供出口過濾器，以確保反應物氣體的純度。該機具有多種工藝控制參數。這包括壓力、溫度和腔室偏置,以及兩個獨立的射頻電源和一個可選的匹配網絡。其參數控制提供直流偏差和掃描功能，允許用戶微調沈積參數。P5000 Mark II還具有通信接口,可訪問和修改數據記錄和其他控制參數以優化流程。Mark II還具有一個形狀獨特的可視化窗口,允許直接查看沈積和蝕刻過程的圖像。這樣可以更好地了解對樣本執行的過程。此外，Mark II還包括EOL保護、設備匹配、無氧等離子體和能夠維持晶圓溫度的基板冷卻技術。總體而言,P 5000 MARK II為各種沈積和蝕刻工藝提供了高效、可靠且經濟實惠的PECVD解決方案。它的多個工藝室和配套配件，加上廣泛的工藝控制參數，使得應用材料P5000 Mark II成為研究和工業應用的理想解決方案。