二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293762173 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reactor是設計用於先進半導體制造設施的高端工具。AMAT P5000 Mark II主要用於執行外延生長過程,例如在單晶基板上形成絕緣子矽（SOI）層,是一種出色的工具,用於進行研究、開發和生產應用。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II是一種超高真空（UHV）反應器，運行時基壓為10-11 Torr。它能夠達到5000°C的基板溫度，最大加熱速率為15°C/秒。反應堆包括石墨3區爐設計，有效區長9.5英寸，25區幾何形狀。它擁有獨特的計算機控制的液壓徑向升降設備，可以從計算機用戶界面進行控制。AMAT P 5000 MARK II還包括先進的多中心外延技術，在包括立方、六邊形和三角形結構在內的各種基板上提供薄膜厚度的均勻性。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II還為沈積和生長提供了多種材料選擇，包括石墨烯和其他2D材料以及3D材料，以及包括Al、Si、Ge等在內的一系列前體化學。除多中心技術外，P5000 Mark II還提供主動氣體輸送系統，對反應物進行精確控制，確保滿足材料的生長速度和化學計量。由閉環反饋機操作的高級級控制單元利用軸電機控制始終保持晶圓、淋浴頭和基板之間的恒定關系,從而確保薄膜厚度一致和沈積均勻。P 5000 MARK II還包括一個流程監控工具，提供對增長參數的恒定反饋，提供對流程的全實時跟蹤和控制。最後,AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II提供了真空斷裂資產,允許氣體進入加工室而不會產生壓力波動的風險,從而在加工過程中釋放操作員以完成其他任務。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II Reactor提供了無與倫比的特性和功能，在石墨烯和3D材料等多種材料中提供了過程穩定性和一致性，使其成為先進半導體制造設施的絕佳選擇。