二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9011652 待售

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ID: 9011652
晶圓大小: 6"
CVD System, 6" (2) Standard chambers UNIVERSAL CVD Chamber Nitride / TEOS CVD.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一種通用的單晶片濕批次反應器,非常適合工業和研究用途。該加工室采用矽晶片基板建造,但與其他各種常見材料兼容,能夠提供高達1000 °C (1830 °F)的溫度和高達30個大氣層的壓力。該設備是圍繞統一和自動化設計的,同時保持了業界前所未有的安全可靠的平臺。AMAT P5000 Mark II可以有效處理等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)過程,包括選擇性區域蝕刻、摻雜過程和金屬沈積。通過結合快速而有力的現場清洗過程、自動化的可編程冷卻以及精確的氣體和排氣控制,這座反應堆可以幫助研究人員和工程師獲得最準確和必要的沈積剖面。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II作為一種濕式批量單晶片系統,以低熱預算運行,具有自動化、可重復的工藝。該單元的疏散和加熱是快速和精確的與加熱導軌元件和通量均勻性內/跨晶圓表面。總機還設計了快速排汙,無需額外的幹氣去除。通用安全是P5000 Mark II設計的最前沿。該工具完全封裝在不銹鋼外殼中,配有反應性回填傳感器和安全的蓋子執行器,為用戶提供了增強的安全性和降低噪音組件帶來的額外好處。該反應堆還設有一個獲得專利的SafetyX™雙工藝室,在一個不受潛在交叉汙染的孤立環境中提供可移動的彈藥筒蓋和改進的溫度和成分傳感器。應用材料P5000 Mark II是一種極具效率和成本效益的方法來進行要求苛刻的沈積過程與總精度。完全自動化和可重復的過程、安全的安全功能以及高效的散熱設計,使資產能夠快速、無故障地提供出色的結果。與其他工藝和設備相比,P 5000 MARK II是實現詳細晶圓應用的最可靠和最成功的工具之一。
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