二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9044020 待售
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ID: 9044020
Oxide etch system, 8"
Includes:
Process: 40 oxide
Software version: l4.70b
System power rating: 208VAC, 3 phase
Loading configuration: 2 cassette handler configuration
(2) MxP chambers
Model: MxP poly
Esc type: Electrostatic
1torr manometer: MKS 127aa-00001b
Chamber dry pump model and size: Ebara A30W
Loadlock dry pump model and size: Ebara A10S
Turbo pump model and size + controller: Alcatel ATH400M
Cathode chiller model: amat hx+150 CHX TC-300
Wall chiller model: AMAT0
EP system: monochrometer
Heater stack/gate valve: standard
RF generator model: ENI OEM-12B
RF match model: hybrid RF match
IHC manometer: 10 torr manometer
IHC mfc size: 20 sccm
High voltage module: sharing between chamber A/B
Remote components:
(2) Dry scrubber cabinets
AMAT 0 HX. Power rating: 208VAC, Chemicals used: Glycol.
(2) Neslab CHX chillers, Power rating: 208VAC, Chemicals used: Glycol
1992 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是半導體工業中為化學加工而設計的革命性反應堆。它是用化學氣相沈積（CVD）設備建造的，該設備允許晶圓表面的各向同性幹蝕刻，而無需濕法化學蝕刻。Mark II還擁有獨特的雙腔室設計，使它能夠同時運行兩個不同的過程--每個腔室一個。這提高了整個工藝周期的效率，同時提供了更高的產量和減少了周期時間。AMAT P5000 Mark II設有兩個反作用室，每個反作用室氣密，溫度控制，由獨立電源供電。此外，該室還具有高端惰性氣氛，可進行多種工藝化學處理，包括氧氣和基於等離子體的蝕刻。這些反應室由耐高溫不銹鋼構成，即使在極端的加工條件下也能保證優異的性能。此外，這些腔室能夠容納各種不同的感受器尺寸。應用材料P 5000 MARK II還為精確溫度設置提供了先進的溫度控制系統。該單元配有溫度控制器、數據收集機以及用於過程控制的可編程邏輯控制器（PLC）。此外，P5000還提供多種安全功能，如燃氣線路關閉開關和緊急停止按鈕，以確保過程安全。在沈積技術方面，P 5000 MARK II提供了在750 nm至1.5微米範圍內沈積薄膜的能力。它還提供了卓越的晶體質量、均勻性和可重復性，以及高溫沈積環境，確保了優越的工藝控制和產量。此外,它還允許與低壓化學氣相沈積（LPCVD）和原子層沈積（ALD）工藝兼容。綜上所述，P5000 Mark II是一個先進的半導體加工工具，擁有卓越的性能和過程控制。其獨特的雙室設計和先進的溫度控制資產，使其成為許多不同類型的高性能工藝的理想選擇。此外,它的靈活性和性能使其成為各種半導體生產環境中的最佳選擇。
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