二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9097804 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9097804
PECVD System
Process: PO Nitride
(2) DCVD-LH Lamp heated chambers
8-Slot wafer storage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一種半導體生產反應堆,用於制造先進的微電子元件。這種設備能夠通過原子級沈積工藝在半導體晶片上沈積超薄氧化膜。該技術可用於晶體管、催化劑、顯示元件等半導體元件的批量生產。AMAT P5000 Mark II是一種高通量的真空沈積系統。它具有6英寸晶圓容量的負載鎖室,每小時最多可處理100個晶圓。該裝置采用電子束蒸發技術,以確保所有晶片表面積上的氧化物沈積均勻性。這種高精度工藝具有生產粗糙度低、透厚均勻性優良的薄膜的優點。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II使用的是一個氙離子源離子將膜濺射到晶片上。這種濺射過程與電子束蒸發相結合,使薄膜在從室溫到1000 °C的廣泛溫度範圍內均勻沈積。這種高溫容量可以快速高效地沈積氮化物、氧化物、矽化物和復合膜。該工藝還產生了純度高、缺陷低的薄膜,導致可用半導體零件的收率更高。P 5000 MARK II的設計還確保濕膜和幹膜為下一個加工階段做好準備,有助於提高整體生產周期時間。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II配備精密石英監控器和控制器。這有助於通過控制離子束的能量、束功率、入射角和其他過程參數來確保沈積過程的質量。該機還配備了先進的圖形用戶界面(GUI),便於操作和控制。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是生產半導體和其他先進微電子元件的高效通用工具。該反應堆在所有晶片上的沈積具有極好的均勻性,能夠對各種材料進行快速和均勻的處理。P5000 Mark II先進的控制工具和用戶友好的GUI為用戶提供了可靠高效的處理解決方案,優化了所有半導體器件的產量和質量。
還沒有評論