二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9114965 待售

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ID: 9114965
晶圓大小: 8"
CVD Nitride dielectric etcher, 8" 3-Chamber (2) 5000 CVD chamber with CVD delta teos gas box, Gold precision 5000 lamp (1) 5000/5200 CVD chamber with 5000 CVD lamp ENI OEM-12B3 RF Generator ENI OEM-12B RF Generator (3) RFPP LF-5 RF Generator (3) Astech ATL-100RA Matching network Heat exchanger.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是為集成電路的外延沈積、擴散和側壁處理而設計的最先進的反應器。它是當今復雜集成電路大批量制造的理想選擇。它可以與多種來源類型一起運作,包括分子束線源,具有廣泛的氣體和其他輸入材料;可以精確控制生成的表層的結構和組成。AMAT P5000 Mark II的腔室設計為允許精確的溫度控制;可變範圍為100-1000 °C,腔室可讓用戶精確控制過程的熱特性。它還具有高容量渦輪泵,以確保良好的氣體控制和較低的底壓。這樣可以精確控制操作過程中實現的質量通量速率,並提高所有過程的生產率。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II通過標準VME接口利用了先進的計算機控制能力。這種復雜的計算機控制器可以方便地復制過程條件和精確地處理所采用的時間和順序。該系統還配備了數字高溫計和熱電偶反饋裝置,可以精確控制源材料的蒸發速率。P 5000 MARK II具有廣泛的安全特性,包括耐腐蝕的不銹鋼腔室、低氣體泄漏率以防止火災和爆炸,以及增強的PECVD(等離子體增強化學氣相沈積)鈴,用於改進顆粒密封。此外,P5000 Mark II的APPLIED MATERIALS包括一個電離器以盡量減少微粒汙染,一個用於最佳工藝控制的Hermetically密封真空系統,以及用於增加人員和設備保護的自動減壓閥。P5000 Mark II是大批量生產先進、專業集成電路結構的理想工具。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II具有廣泛的特性和高性能,對於那些在集成電路制造方面要求獲得最佳效果的用戶來說,它是一個極好的選擇。
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