二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9175069 待售

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ID: 9175069
CVD System (1) Standard CVD chamber (1) Universal CVD chamber Can be used for nitride or TEOS CVD.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反應器是一種用於高性能薄膜生長的先進沈積工具。反應堆配有精密脈沖直流功率單元、先進的頻率發生器和溫度控制器,提供以納秒為單位測量的優越過程控制。AMAT P5000 Mark II也有多區熱控制,允許反應堆不同部位的溫度不同。這確保了均勻的沈積速率和均勻的晶體學參數,即使在處理具有不同性質的材料時也是如此。APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II具有計算機控制的過程界面,使用戶能夠編程或自動執行正確的沈積過程。它采用了最新的節能技術,如動態氣流管理,可以定制以優化每個沈積過程。這使得它具有高度可定制性,使用戶能夠為任何特定應用開發量身定制的影片。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II具有超高真空系統,具有鈦吸塵器和鈦陰極電子轟炸源。這確保了超高真空環境和最小的汙染,導致優越的薄膜質量。系統具有5"、6"和8"磁感器,並帶有可選的負載鎖。它還有一個氣體入口閥,用於將前體引入腔室,以及質量流量控制器,可以對氣體流量進行精確控制。AMAT P 5000 MARK II還配備了RS232-based的個人電腦界面,令人難以置信的用戶友好。反應堆還能夠進行遠程控制和監測,使用戶能夠通過互聯網連接從任何地方進入儀器。這些功能使其非常適合研究實驗室和制造環境。綜上所述,P5000 Mark II是一種強大的沈積工具,能夠生產具有卓越工藝控制、先進節能技術、超高真空系統和用戶友好界面的高性能薄膜,使儀器可以從任何地點進入。它是研究實驗室和制造環境中工作人員的重要工具。
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