二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9200059 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS P5000 Mark III是一種獨特的半導體晶圓加工反應器，是最先進的超高密度等離子體反應器之一，可用於芯片蝕刻和沈積過程。它在優化的系統布局中包含了最新、先進的處理元件，包括電容耦合等離子體（CCP）源、等離子體源中的高場掃掠線圈、感應耦合等離子體（ICP）源和高分辨率氣流分布器。高性能Mark II具有許多功能,非常適合挑戰蝕刻作業。AMAT P5000 Mark II是一個雙射頻等離子體源系統，具有微波供電的ICP源和電容耦合平面（CCP）源。ICP源利用寬帶掃描線圈提供極高的功率密度,即使在深層特征和高寬高比結構中也能實現高蝕刻速率。CCP源提供電子浴，以維持晶圓的均勻覆蓋，即使在晶圓尺寸增加、晶圓厚度變化等過程變化中也是如此。應用材料P 5000 MARK II等離子體源中的高場掃掠線圈，加上微波等離子體源，有助於提供目前可用的最高沈積速率。這種特性能夠沈積極光滑，甚至可以達到幾百納米深度的塗層。線圈是可調的，允許工藝工程師微調沈積速率以滿足他們的特定需求。AMAT P 5000 MARK II的另一大特點是其高分辨率氣流分銷商。這一先進的特性有助於確保氣體和反應物向等離子體腔的均勻可控的流動，使晶圓的所有部分都暴露在相同的均勻和所需的等離子體條件下。這確保晶片工藝能夠在短時間內完成，達到傳統手工工藝無法達到的統一程度。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是可用於芯片蝕刻和沈積過程的極致超高密度等離子體反應器。其眾多的高性能特性包括寬帶掃掠線圈、微波供電的ICP源和高分辨率氣流分發器，允許精確的過程控制。其優化的系統布局確保了均勻的覆蓋範圍，對高長寬比結構和大晶圓尺寸具有重要意義。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II反應堆是一種尖端工具，是具有挑戰性的蝕刻作業的絕佳選擇。