二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9213668 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反應器是一種等離子體增強化學氣相沈積設備，針對需要高質量薄膜的沈積應用進行了優化。AMAT P5000 Mark II裝有兩個腔室，並提供兩種工藝選擇：IDPECVD（電離沈積工藝）和MPPECVD（Multi Plauna Power Enhanced Chemical Vapor Deposition）。IDPECVD是一種沈積過程，它是由電子束以相對較高的功率密度對沈積室內的前體氣體進行高能轟擊而引發的。MPPECVD是一種非高能沈積工藝，用於生產功率密度較低、均勻性較高的薄膜。這兩種工藝都是生產質量、附著力和均勻性較高的薄膜的關鍵。PLIED MATERIALS P 5000 MARK II反應器采用頂載式裝載裝置設計，便於進入沈積室裝卸晶片。頂部加載的基板機架使用戶能夠以較高的吞吐量速率加載600mm晶片。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反應堆還裝有用於高質量原位計量的高性能俯仰捕捉操縱器和用於精確即時反應控制的氣體輸送系統。為了提高AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II反應堆的性能，該系統還包含了一些先進的測量和控制功能。其中包括能夠獨立頻率轉向和匹配的四點射頻單元，即時動力控制，以及通過紅外測量對薄膜厚度的反饋控制。此外，該機還能夠測量薄膜厚度、光學特性和具有亞微米精度的電氣特性。為確保安全和過程控制，AMAT P 5000 MARK II反應堆包括多項安全功能，如過溫保護工具、過壓保護資產和自動壓力控制器。自動壓力控制器精確控制腔室內的反作用壓力，以確保每個過程的安全準確性能。P5000 Mark II反應器是一種先進的沈積模型，旨在為各種工業應用生產具有卓越均勻性、附著力以及光學、電氣和熱特性的高質量薄膜。該工藝專用反應堆配備了關鍵的安全特性和先進的計量、測量、控制系統，以實現可靠和可重復的性能。