二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9288010 待售

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ID: 9288010
晶圓大小: 6"-8"
CVD System, 6"-8" Mainframe (2) UNIVERSAL TEOS or nitrtide chambers 8 Slot storage elevator Remote frame Vacuum pumps.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一種先進的等離子體蝕刻工具,用於生產精確的電路、顯示器和其他微型元件。AMAT P5000 Mark II設計精密靈活,能夠以高產和可靠的質量制造極其復雜的形狀、圖案和序列。應用材料P 5000 MARK II建立在經過驗證的P5000平臺上。它是一個單一的晶圓裝置,接受150 mm或200 mm晶圓,最大外形尺寸為8 「x 8」。它具有先進的工藝室設計,為均勻蝕刻型材提供了高等級的熱均勻性。該腔室配有雙源石英氣噴射器設備,能夠在不同蝕刻要求下實現卓越的工藝控制。該系統還有一個陶瓷襯裏,以增強附著力和可靠的化學傳遞。蝕刻過程由E-Flex控制單元驅動,E-Flex控制單元是一個功能強大的用戶友好軟件包,可精確控制校準、蝕刻速率、溫度、氣體輸送和工藝參數。E-Flex控制機為操作員提供所有過程變量的實時反饋,從而能夠精確調整過程以確保最大產量和最高產品質量。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II在高離子電流密度下運行,350A/cm2在500-5000W之間具有可重復的工藝範圍。這樣可確保深度蝕刻剖面的高滲透率和快速處理時間。它還提供了整個晶片表面的均勻性,深度分辨率高達10微米,深度超過1mm的可重復氧化物蝕刻循環。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II工具具有諸如晶片探頭、自動鎖定工具和壓力監視器等安全功能。它們共同確保操作不間斷和安全,並將操作員受傷的風險降至最低.它還具有一些附加功能,例如200-400Kg負載鎖定、溫度監視器和集成跟蹤資產,從而提高了流程的準確性和統一性。它還獲得了若幹工業監管標準的認證,如NRTL/C、CE和UL。總體而言,P 5000 MARK II是一種高效、精確的工具,能夠以極高的可靠性和準確性生產高度復雜的結構和組件。它是市場上最先進的蝕刻系統之一,非常適合電路制造和微芯片組裝。
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