二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9313061 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9313061
晶圓大小: 8"
優質的: 1993
Etcher, 8"
Gas panel facilities: Top feed single-line
Gas panel exhaust: Top feed
Robot blade: Metal
Wafer type: Notch
Gas panel type: UHP
EMO's: Momentary
Gas lines: (28) Lines
Robot type: Standard
System umbilicals: 25ft
MF Facilities: Rear
Mainframe: Phase II
Load lock slit valves: Viton
NESLAB Heat exchanger
VME Rack: Standard
Hard Disk Drive (HDD): 4.5 GB
Chamber A:
Chamber process: Oxide
Lid type: MxP+ Clamped
Susceptor / Pedestal: RIE
NESLAB Heater / Cathode cooling
Slit valve O-ring: Chemraz
Chamber O-rings: Chemraz
NESLAB Wall cooling
Single manometer: 1 Torr
Throttle valve: Direct drive
Gas valves: Nupro
Chamber clamps
Chamber B:
Chamber process: Oxide
Single manometer: Manometer 1 Torr
Throttle valve: Direct drive
Susceptor / Pedestal: RIE
NESLAB Wall cooling
NESLAB Heater / Cathode cooling
LEYBOLD Turbo pump
Chamber B gasses:
Gas / MFC Size / Gas name
Gas 1 / 100 Sccm / CHF3
Gas 2 / 200 Sccm / Ar
Gas 3 / 50 Sccm / CF4
Gas 4 / 200 Sccm / O2
Gas 5 / 20 Sccm / O2
Gas 6 / 100 Sccm / N2
Gas valves: Nupro
VME Rack and chamber parts missing
Power supply: 208 Vac. 400 Amp, 50 Hz Transformer
1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反應器是一種用途廣泛、成本效益高的納米加工、納米幹擾化和先進材料沈積工具。這座技術先進的反應堆設計有兩個獨立控制的高精度加熱級，一個充滿惰性氣體的壓力室和一個石墨敏感器。其最大90毫米的壓力室允許通過創造高達1200 °C的高溫處理來處理各種先進材料。雙源系統允許同時塗覆先進材料,每種材料最多可接受四個源。可重復使用的磁化器由石墨構成，具有良好的導熱性能，熔點高。在進行表面表征和樣品分析等納米幹擾化實驗時，使用感光器分別控制每個加熱板的溫度。磁感器還用於在需要沈積時蒸發金屬和半導體薄膜等材料。每個基板的溫度可以獨立變化。石英管配有AMAT P5000 Mark II反應堆，提供惰性環境。石英管充滿惰性氣體，以保護先進材料不受氧化或其他與環境空氣反應引起的降解。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II反應器是一種用途廣泛、成本效益高的納米加工工具。其雙源系統允許多種材料同時處理，其獨立控制的加熱級提供精確的溫度控制。石墨敏感器確保了熱量向基板的有效傳遞，惰性氣體環境有助於保護先進材料免受氧化或降解。AMAT P 5000 MARK II反應器能夠產生高達1200°C的高溫處理，非常適合先進的材料沈積和納米幹擾化實驗。
還沒有評論