二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9356928 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9356928
晶圓大小: 8"
PECVD System, 8"
(3) Chambers
Process: TEOS, TEB, TEPO
Throttle valve, P/N: 0010-76174
SACVD Gas box
Pressure transducer, P/N: 122BA-01000EB-S
Transducer, P/N: 627A-13267
Mass Flow Controller (MFC), P/N: LF-310A-EVD
Gases: N2, O2, NH3, He
(3) Lamp assemblies, P/N: 0010-09978
(3) RF Match assemblies, P/N: 0010-09750
(3) 5000 / 5200 CVD C-Plug throttle valves, P/N: 0010-37151
Remote control liquid injector, P/N: 0010-09886
ASTEX AX8200 Ozone generators:
(2) AX8200A-CE, P/N: 0190-35870
AX8200A, P/N: 0190-09437
(3) ENI OEM-12B RF Generator, 1250 W
(3) ADCS Gas box and controllers
(3) ADCS A1 Signal interface modules
(3) ADCS Automatic purge controllers
(3) ADCS BRC 22A Integrated refill controllers
(3) ADCS 969 Low level monitors
Ozone generator rack
Gas, shower head box
Cables.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反應堆設備是為半導體相關生產而設計的最先進的反應堆。AMAT P5000 Mark II反應器是從薄膜沈積到蝕刻加工的理想選擇。有了各種各樣的工藝室，Mark II反應堆就能在精度和性能之間達到完美的平衡。配備了先進的特性，如熱均勻性、壓力控制和低成本的電子子系統，Mark II反應堆為用戶提供了優質的沈積和蝕刻體驗。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II反應堆包含一個被稱為雙束多過程室（DBMPC）的獨特特性。這種腔室特征是一種多功能腔室，能夠在一個腔室中組合兩個原子束源過程。這為用戶提供了在單個腔室內同時執行沈積和蝕刻過程的靈活性。Mark II反應堆利用一個低成本的電子子單元，可以精確控制腔室環境內的基板溫度。機器能夠達到600°C的溫度，整個基板的溫度均勻度在1%以內。通過高效真空工具提高了溫度均勻性，使腔室壓力保持低穩定。Mark II反應堆配備了先進的工藝氣體混合程序。混合程序控制時間、流量、壓力和溫度，以達到所需的工藝效果。此功能允許精確的過程控制,允許以極高的準確性和可重復性完成過程。Mark II反應堆還設計了安全資產，以保護使用者和設備。安全模型包括多個安全傳感器、溫度傳感器和聯鎖裝置，以確保用戶安全和操作設備的可靠性。AMAT P 5000 MARK II反應堆設備是半導體相關生產的理想選擇。憑借先進的特性、精確的溫度控制、先進的工藝氣體混合和安全系統，Mark II反應堆是半導體行業用戶的首選也就不足為奇了。
還沒有評論