二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9389403 待售
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單擊可縮放
ID: 9389403
晶圓大小: 6"
優質的: 1993
CVD System, 6"
SV21 SBC Board
Cassette indexer, 6" Clamp
8-Slots elevator
(2) CRT Monitors
Robots: Phase-III
Robot blade: Standard vacuum
Centerfinder: USE
Cap wafer sensor
AC Rack: 1 Shrink
Heat exchanger
Electrical controller
Nupro bellows valve
EMO Option: Turn to release
EMO Button guard rings
(4) ENI OEM-12A RF Generators
HX Seperate mani fold
Status light tower (Color / Position): Red, yellow, green, blue
Signal cable: 25"
Flash Hard Disk Drive (HDD)
Floppy: 3.5" SCSI Driver
Mini-controller
Electrical controller:
(2) TC Gauge boards
Power rack, 12 VDC; (2) 15 VDC
Buffer I/O board
(2) Opto I/O boards
(4) Chopper driver power racks
RF Generator:
Chamber A: OEM12B-02
Chamber B: OEM12B-02
Chamber C: OEM12B-07
Chamber:
Chamber position: A, B, D
Chamber type: DLH 1-Hole
Process: SiH4 Oxide
Heater type: Lamp
Susceptor type: Al
(4) Matchers
Delta nitride dual spring throttle valve
Gas panel: 20 Standard channels
Gas supply: Top down
MFC: SEC 4400MC
Manual valve: Fujikin
Pneumatic 2-Way valve: NUPRO
MKS 122B Baratron gauge, 10 Torr
(4) Pumping plates
(4) Ceramic focus rings
(4) Shower heads
(4) Blocker plates
(4) Heater windows
(4) Bellows susceptors
(4) Bellows wafer lifts
VME Controller:
1 / SBC Board
2 / SV21 SBC Board
3 / SEI Board
6 / VGA
7 / AO-1
8 / AI-1
9-12 / Stepper control board
13-16 / Digital I/O board
17 / -
19-20 / -
Gases:
Gas / Range
N2 / 3 SLM
SiH4 / 100 SCCM
CF4 / 2 SLM
N2O / 2 SLM
1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反應堆是一種高科技、高效的生產工具，用於一系列半導體制造和制造相關工藝。利用超高真空（UHV）退火技術和強大的5軸運動控制設備，AMAT P5000 Mark II反應堆被設計為在廣泛的生產大氣層中運行時實現精確和可重復的工藝結果。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II反應堆是一個五區直列式特高壓退火系統，每個區獨立控制優化，使反應堆性能達到最佳。這三個熱區都同時使用氦/氧/氫等離子體化學進行溫度控制和純化。此外，特高壓環境創造了一個無分子物種的惰性環境，可以在結果中引入非均勻性。P 5000 MARK II反應堆的設計實現了工藝結果的最高重復性和重復性。5軸運動控制單元自動調整處理參數，而控制算法則提供一致且高度可重復的處理結果。AMAT P 5000 MARK II反應堆利用多項先進的特性來降低熱預算，同時確保工藝結果可重復和統一。諸如腔室加工、自動氣體輸送機、惰性大氣層和集成的感應耦合等離子體（ICP）源等特殊特性可以實現最佳腔室性能。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II的大型4.7升工藝室和石英玻璃管設計確保了工藝材料的高效運輸。該腔室的構造是為了最大程度地提高工藝的均勻性，反射壁為熱退火和等離子體工藝提供均勻的腔室覆蓋。采用不銹鋼結構，腔室提供堅固耐用的結構，具有溫度和熱沖擊特性，適合較長的加工時間。APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一個自動化過程解決方案,具有自動化配方開發庫、集成的監控工具和高級控制資產。直觀的軟件使用戶能夠快速、輕松地創建、修改和下載配方。集成監控模型為用戶提供實時流程監控，允許用戶在需要時對其流程進行準確更正。P5000 Mark II反應堆是一種強大、精確和可靠的工具，適用於廣泛的過程。其精確的溫度和運動控制，直觀的軟件和堅固的結構使其成為生產環境的理想選擇。
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