二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9398766 待售
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ID: 9398766
晶圓大小: 8"
優質的: 2005
Etcher, 8"
Robot: P5000 std robot, 8"
(3) Chambers (A, B, C)
Type: M Chuck
Throttle valve type
ALCATEL Turbo
Turbo controller:
NT340M
(2) CFF 450
0010-09416 RF Matcher
Orienter chamber: D
OEM 12B-02 AC Rack generator
Gas box:
MFC: STEC 4400
Nupro manual valve
Pneumatic diaphragm valve: Nupro
Sub module:
(2) AMAT-0 Heat exchangers
HX-150 Chiller
P/N: 0010-76036 Mini controller
2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II反應堆是為制造半導體器件而設計的先進半導體加工工具。反應堆使用感應耦合等離子體(ICP)形成等離子體蝕刻過程。ICP是離子、電子和其他粒子在激發時形成等離子體的交流電(AC)。這種等離子體產生強烈的電場,導致加速的化學反應和材料的蝕刻。AMAT P5000 Mark II反應堆由溫度範圍為20 °-200°C的專屬載荷鎖和高分辨率LED顯示屏組成,提供實時溫度反饋。該系統還具有示例診斷和實時監控功能,以確保樣本的準確性和性能。該反應器設計用於在蝕刻過程中保持均勻的等離子體,這是通過自動高壓波長均衡器實現的,以確保穩定的等離子體源。這是在蝕刻過程中創建可靠和一致零件的一個重要因素,因為等離子體的波長可以根據功率、氣流和壓力而變化。單窗腔和6 N2冷卻電感耦合等離子體源提高了精度和可重復性,提高了吞吐量。該反應堆還提供可選的單片操作,用於加工生產材料和原型材料。為了提高系統效率,由經驗豐富的AMAT工程師組成的團隊可以執行射頻調節和故障排除,並提供優化和過程開發服務。還有一套支持軟件可用於支持該系統的流程開發、自動化和監控。APPLICED MATERIALS P 5000 MARK II反應器能夠以可重復和可重復的方式制造具有單個晶片工藝的半導體器件,這對於實現可靠、經濟高效的產品至關重要。因此,P5000 Mark II是工業制造所有半導體器件類型的理想工具。
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