二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #181093 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 181093
晶圓大小: 8"
優質的: 1997
Etch Chamber, 8"
Process: 50 and 55 spacer
Loading Configuration: 2 Cassette Handler/ 29 Slot Storage
System Power Rating: 208VAC 3-Phase
Software Version: L4.70B
Mainframe body
System AC power box
CRT monitor/Monitor Base/Light pen
ESC Type Electrostatic
1Torr Manometer MKS 127AA-00001B
Turbo pump model and size Seiko Seiki 301CB1
Turbo pump controller SCU-21D
Cathode Chiller model AMAT Neslab HX150
Wall Chiller model AMAT Steelhead 1 CHX
EP system Monochrometer
Heater Stack/Gate valve Standard
RF generator model ENI OEM-12B
RF match model Hybrid RF Match
IHC manometer 10 Torr Manometer
IHC mfc size 20 sccm
High Voltage Module Chuck
Etch Chamber A: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2
Etch Chamber B: CHF3 CH2F2 NF3 O2 N2 CF4 Ar Cl2
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP是一種處理設備,其設計目的是在一系列批處理和單晶圓應用中實現最大的靈活性和性能。MxP是一個反應堆系統，具有一個自動處理室，包括預先安裝的多端口負載鎖、靜電卡盤和基板加熱元件、氣體和液體源的三個輸入/輸出端口以及一系列過程控制和監測組件。該單元配備了先進的晶圓放置視覺機，以及用於精密基板處理的運動控制。MxP為各種應用提供高溫固相薄膜和接口。通過其內置的多階段熱過程，MxP執行退火和擴散過程。此外，MxP還提供先進的氧化和化學氣相沈積（CVD）工藝。它的等離子體源使無定形SiO2膜、等離子體氮化膜和等離子體摻雜膜的產生成為可能。MxP采用實時過程監控、自動晶圓處理和智能配方開發，以確保晶圓特性的準確性。它的操作員界面通過允許審查和選擇配方和參數來提供每個流程步驟的可見性和控制性。室內環境用實時工藝參數密切監控，包括溫度、壓力、等離子體水平和工藝氣體。此外，AMAT還提供了其他幾種專門為增強MxP性能而設計的解決方案。這些解決方案包括當前和即將推出的MxP反應堆版本，以及支持MxP革命性能力的交鑰匙工藝解決方案。AMAT P5000 MxP旨在為用戶提供最大限度地提高設備性能的能力,使他們能夠利用各種熱過程。MxP反應堆具有精確的溫度控制、卓越的制造工具和工藝監控能力，是廣泛應用的理想選擇。
還沒有評論