二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9127952 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor是一種用途廣泛、功能強大的半導體工業加工工具。這臺先進的機器旨在將化學蒸氣轉移到基板上，從而實現先進的半導體制造工藝。AMAT P5000 MxP Reactor配備了先進而強大的等離子體發生器，具有集成的有源微波陣列和強大的63 MHz射頻（RF）發生器。這種組合提供了在大範圍的基材尺寸上精確控制蝕刻和沈積過程的能力。在沈積過程中，應用材料P5000 MxP反應器利用先進的高密度等離子體（HDP）技術沈積單層或多層薄膜，具有極好的均勻性、階梯覆蓋率和垂直輪廓。這種用途廣泛的反應堆與各種底物和薄膜材料配合使用，允許各種薄膜被精確地沈積。對於蝕刻，P5000 MxP Reactor使用獨特的磁模式來實現對蝕刻化學和蝕刻速率的精確控制。由於磁模蝕刻提供了改進的垂直蝕刻輪廓和改進的模具均勻性,因此這種電源過程不需要復雜的外部偏置系統。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor通過其工藝模塊提供了靈活性和多功能性。這些模塊旨在實現蝕刻和沈積過程的並行處理,從而提高過程吞吐量。模塊化設計還使用戶能夠將流程與AMAT P5000 MxP結合起來，從而在單個平臺上提供創新的流程步驟。此外，應用材料P5000 MxP反應堆利用了廣泛的基材和基材。其中包括直徑範圍從2英寸到8英寸的單面和雙面基板。再者，P5000 MxP反應堆還支持各種底物材料，包括但不限於二氧化矽、氮化鋁和氮化矽。AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor是一種功能強大且用途廣泛的半導體制造工藝工具。其獨特的能力，如高密度等離子體沈積和磁模蝕刻，提供了對蝕刻和沈積化學的精確控制，以及處理各種底物和薄膜材料的能力。因此，AMAT P5000 MxP Reactor可以為當今先進的半導體制造工藝提供必要的工藝靈活性和吞吐量。
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