二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9181328 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+是一種模塊化蝕刻反應器，設計用於高級VLSI和微電子器件的高縱橫比處理。采用傳統的反應性離子蝕刻（RIE）和等離子體誘導的化學氣相沈積（PICVD）工藝，對相片和高長寬比掩模進行了優化。這種混合式腔室能夠在一個設備中定義設備級別的特征和集成過程配方。MxP+是一種單晶片系統，支持高達150毫米的晶片，具有閘門、主室和前室的三區設計。閘室經過優化，以加快真空和納米湍流模式之間的過渡時間，而主室則用於傳遞反應性離子和等離子體能量，以蝕刻晶片表面。晶片背面暴露於前室等離子體，以確保均勻蝕刻過程。AMAT P5000 MxP+設計用於高密度設備特征模式,這是最先進的設備設計所必需的。這是通過提供高度穩定的工藝環境，包括主動和被動環境清潔控制技術來實現的。MxP+還提供了快速循環時間和過程可重復性,允許更高的吞吐量和設備產量。MxP+采用了多種蝕刻技術的組合，包括離子束蝕刻、離子增強等離子體蝕刻、高密度等離子體蝕刻和濺射蝕刻，允許各種底物和材料被蝕刻。它還允許用最小的底切或彎曲來蝕刻金屬線。為了保證高精度和重復性，腔室具有更嚴格的壓力和溫度過程控制，並具有通用的電力和氣體分配系統。MxP+還有一個易於使用的配方開發軟件單元，它允許工程師在最少幹預的情況下快速創建定制配方。配方機還自動調整流程設置，顯示蝕刻深度、選擇性、均勻性等實時數據。此外，配方制造商軟件還內置了保護措施，以確保工藝參數的質量和可重復性。總之，應用材料P5000 MxP+是一種先進的反應器工具，設計用於先進的VLSI和微電子器件的高長寬比處理。它結合了蝕刻技術,為高密度設備提供了無與倫比的精度、可重復性和吞吐率。此外,它還具有自動化配方開發資產,為工程師提供了快速、輕松地創建高度可重現的工藝配方的靈活性。