二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+ #9200091 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP+
ID: 9200091
Poly etcher.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+反應堆是一種先進的等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)設備,設計用於半導體加工。它是設計和制造納米制造材料的下一代平臺,如薄膜晶體管(TFT)、納米線和其他納米級元件。它非常適合於先進的三維器件集成以及超高質量微電子器件的制造。AMAT P5000 MxP+反應堆具有多種特性,使其成為有吸引力的半導體制造解決方案。它利用先進的磁增強等離子體(MEP)技術,可以提高沈積速率、顆粒均勻性和工藝均勻性。這使得反應堆能夠沈積具有優異電學、熱學和化學性質的高質量薄膜。MxP+反應器具有高的工藝收率、高的通量和低的顆粒汙染,是三維器件集成的理想選擇。APPLICED MATERIALS P5000 MxP+反應堆裝有一個多室布置,用於獨立組分的協同依賴,允許快速反應和高效利用資源。它與現有的熱化學控制系統和優化軟件完全兼容。這允許在沈積過程中有多個熱和化學控制點,確保結果的均勻性和可重復性。此外,MxP+反應堆與先進的射頻和磁場控制系統兼容。這允許精確控制等離子體狀態和底物溫度,以實現更一致、更可重復的性能。P5000 MxP+反應堆配有自動化過程監控系統,使操作員能夠跟蹤過程性能並根據需要進行必要的調整。該單元提供實時數據收集和分析,有助於優化膜沈積速率、均勻性和質量。此外,MxP+反應堆可以通過自動化和手動控制選項進行遠程操作,從而實現快速和經濟高效的制造。總體而言,AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP+反應堆是一種先進的等離子體增強化學氣相沈積機,適用於高靈敏度、高性能的邏輯和內存設備。它提供了更好的沈積速率、均勻性和顆粒汙染,使結果更加可靠和可重現。該反應器具有先進的特點,是先進的三維器件集成和半導體制造的理想解決方案。
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