二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #115991 待售

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ID: 115991
晶圓大小: 6"
優質的: 1991
MXP Etcher, 6" (3) Chambers Mainframe type: Mark II I/O Wafer sensor: No Installation: Stand alone Expanded VME: Yes Mini-Controller: Yes Phase 3 robot: Yes Phase 3 cassette handler: Yes Storage elevator: (8) Slots Cassette platform: Standard Wafer orienter: No L/L Chamber bolt down lid: No L/L Particle reduction kit: No Gas panel: MFC Unit UFC-1100A Gas panel type: Twelve lines main: No Twenty-Eight line onboard: No Standard gas panel (28 line capability): Yes Remote gas panel: No Chamber A: MFC Size gas cal gas 300 sccm CF4 N2 100 sccm Ar N2 100 sccm O2$ O2 50 sccm O2 N2 Chamber C: MFC Size gas cal gas 300 sccm CF4 N2 100 sccm Ar N2 100 sccm O2$ O2 50 sccm O2 N2 Chamber D: MFC Size gas cal gas 300 sccm CF4 N2 100 sccm Ar N2 100 sccm O2$ O2 50 sccm O2 N2 Process application: Chamber A: Etch MxP Chamber C: Etch MxP Chamber D: Etch MxP System electronics: Slot # Description 1 Mini SBC 2 SBC 3 SEI 4 MIZER: No 5 AI 6 AO 7 Video 8 AO 9 AI 10 Stepper 11 Stepper 12 Stepper 13 Stepper 14 DI/DO 15 DI/DO 16 DI/DO 17 DI/DO 18 DI/DO: No 19 DI/DO: No 20 DIO: No Floppy drive 3.5 Chambers A, C and D: Chamber type (Specify Mark II, MxP+, CVD or other): MxP Lid type (Specify STD, EGEC, BDEC, Uni-Lid or other): STD Chamber rough line Chamber airline Chamber interconnect PCB Heat exchanger QD fitting NESLAB facilities plumbing Slit valve assembly Remington hinge slit valve Backing pump circuit breaker RF Generator power outlet RF Generator circuit breaker Magnet driver (If present, Rev#) Lamp driver (If present, Rev#): No RF Match Turbo controller Turbo flow meter: No Turbo pump / Controller type Turbolink NT340M: Leybold Gate valve: No Chamber vent valve Remote frame: Primary pump frame: No Secondary pump frame: No Stacked remote frame: Yes Stacked remote frame contents: AMAT (3) RF Generators (1) Heat exchanger Type of hose fittings: QDC RF Generators: Chamber A: ENI 12A Chamber C: ENI 12A Chamber D: ENI 12A 1991 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種最先進的等離子體反應器,用於蝕刻和沈積用於制造電子器件的材料。這座反應堆以性價比高、性能高而聞名。反應堆利用高頻電場產生的高密度等離子體設備,可提供精密蝕刻和沈積。通過這一過程,可以精確地制作出精度極高的特征。此外,AMAT P-5000還配備了一個專門的高溫子系統,允許更高的沈積速率和保形沈積,這有助於提高材料的均勻性,減少沈積和蝕刻時間,顯著提高工藝效率。APPLICED MATERIALS P 5000反應堆還通過集成先進的高密度等離子體系統提供動態氣體控制和均勻平面化。這大大提高了4-100 nm層的均勻性,精確厚度均勻性為+/-5%。這有助於精確控制蝕刻速率並在沈積水平上達到一致的選擇性。此外,該單元具有達到高達400 W離子密度和40 mT等離子體均勻性的能力,提供了優越的蝕刻工藝,包括優越的溫度控制。吞吐量方面,AMAT P 5000反應堆明顯快於傳統反應堆系統,最大沈積速率高達30微米/分鐘。這有助於減少生產時間和成本。此外,該機器還包含一個專門的計算機界面,使用戶能夠輕松地利用不同的工藝參數和配方來制造不同的組件。總體而言,P-5000是一個先進的基於等離子體的反應堆,為蝕刻和沈積材料提供經濟高效和高性能的能力。該工具以其在厚度、離子密度和沈積過程中的選擇性方面的卓越均勻性和準確性而著稱。此外,它改進的吞吐量和計算機界面使用戶能夠輕松地制造出具有特定要求的組件。
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