二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #116968 待售

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ID: 116968
晶圓大小: 8"
優質的: 1994
CVD TEOS system, 8" (2) CVD TEOS chambers (2) Etch chambers 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應堆是一種用於先進半導體器件制造的外延沈積和平面化設備。AMAT P-5000反應器提供了一種單室溶液,能夠為各種半導體應用提供可靠和準確的外延材料沈積。APPLICED MATERIALS P 5000反應堆配有400mm感應平臺,具有5區多區控制器,用於精確溫度控制。基板由位於腔室下表面下方的高速、獨立的電感應器線圈加熱。磁感器平臺也被設計為同時容納多達24個晶圓。AMAT P 5000反應堆獲得專利的Liner-Spring (TM)端效應器可容納任何類型和大小的基板,無需更換端效應器以容納不同的基板。AMAT P5000反應堆還提供了易於使用的可編程軟件和許多提高生產力的功能,包括自動壓力調節、故障監測和平板真空德加。該系統還建立有一系列沈積源,包括一個濃縮/元素源組合和五個元素源,可配置為提供各種類型的沈積源。APPLIED MATERIALS P5000反應器還具有先進的氣體輸送組件,包括源氣體質量流量控制器(MFC)、清除進、出氣流、清除歧管以及每個源的單獨催化劑。此外,P5000反應堆還配備了一個多級渦輪分子泵裝置,該裝置的配置滿足了半導體器件沈積的要求。該機采用先進的來源和多種先進的材料加工技術相結合的設計,保證了超清潔的工藝氛圍。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000還附有一個名為「氣流」室的額外腔室。這允許一個額外的源,用於以盡可能高的吞吐量沈積用於設備處理的高級材料。氣流允許直接在室內而不是在室外充氣源,並且由於單獨的腔室設計,通往反應堆的氣線很容易被清除。P 5000反應堆提供完整的工具集成,確保最高水平的可靠性和控制。可選的數據記錄資產允許額外的數據收集和分析工具,而預防性維護模型可確保設備的最佳性能。P-5000反應堆是制造任何先進半導體器件的通用、可靠的系統。
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