二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #130202 待售

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ID: 130202
晶圓大小: 8"
優質的: 1994
Etch poly system, 8" (3) MxP poly chambers 1994 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS P5000是一種反應堆,設計用於種植大面積的氮化移銨(GaN)薄膜。該反應堆能夠制造高效的光學和電子元件。AMAT P-5000利用化學氣相沈積(CVD)工藝將GaN膜沈積在矽、藍寶石、GaAs等基板上。反應堆采用高溫石英管爐設計,內含石英反應室。反應室中的坩堝被爐加熱至800°C至1000°C的溫度,而含有GaN或SiGaN的源氣體則被引入反應室中。還供應金屬有機化學前體蒸氣。在這個反應室內,前體分解形成氣態懸浮的氮氣和氙氣,被引導到底物上形成均勻的膜,厚度平坦均勻。APPLIED MATERIALS P 5000反應堆配備了各種各樣的控制選項和特點。為監測反應室內的過程,反應器配有底物和反應室兩個獨立的溫度控制系統。這允許溫度控制和可調節的加熱器功率,以及準確的氣流,壓力和溫度控制。反應堆還能夠在反應室內摻入一系列GaN晶體生長過程,如MOVPE(金屬有機氣相外延)、HVPE(氫化物氣相外延)和S-PDP(種子-HVPE)。為實現高效和受控的晶體生長,APPLICED MATERIALS P-5000的特性能夠控制反應室內的總壓力,從而可以動態調節溫度,並結合氣體調節和溫度級。反應堆還提供了一套獨特的多區溫度控制器,可以準確控制晶體表面和基板上的沈積過程。此外,P 5000還配備了保護人員的多種安全功能,如保護操作員免受電擊的介電消火器和防止擅自進入的互鎖門系統。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000反應器是一種可靠而堅固的CVD沈積工具,用於制造具有優化和均勻性能的大面積GaN薄膜。
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