二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #131584 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種基於物理氣相沈積（PVD）工藝的沈積工具。該工具旨在將材料薄膜沈積到任何合適的基板上，創造出厚度、成分和摻雜的精確控制的薄層異質結構，以滿足半導體、儲能和其他創新的設備制造要求。AMAT P-5000反應堆采用超高真空環境，將金屬、陶瓷、電介質等固體原料汽化，形式為crucibles、源和其他進料部件。一旦去汽化和電離，源材料被高壓電場加速，並以精確的化學計量比沈積在任何熱穩定的基板表面上。刀具的工藝溫度從室溫到900 °C不等，溫度可以用熱電冷卻器（TEC）調節，在整個基板表面上實現精確、均勻的薄膜沈積。可達到的最高沈積速率為每秒2納米（nm）。除了提供較高的工藝重復性和沈積率外，該工具還具有一個可分離的腔室，以便在沈積過程中更換或維護零件，而不會對薄膜產生任何不良影響。APPLICED MATERIALS P 5000通過等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）、濺射、電子束蒸發等一系列不同沈積技術，能夠在基板表面創建納米級架構。還可以減少源顆粒和汙染物，以便為各種應用創造出具有低缺陷密度、高附著力和優越表面均勻性的幹凈、均勻的層。此外，P 5000配備了通用的工藝控制器，可以方便地操作工藝參數，以精確控制薄膜厚度、成分和摻雜。該工具還使用戶能夠實時監控薄膜的增長。此外，還可以使用大量的數據收集和分析方法從工具中提取相關特性，並優化工藝，以提高產量和效率。綜上所述，AMAT P 5000是一種極好的沈積工具，它通過精確控制薄膜層的結構和性能來促進薄膜沈積。通過采用各種沈積技術，該工具確保了高可重復性和均勻性，可應用於材料科學研究和半導體器件制造的眾多應用。