二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #159335 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種設計用於半導體和光電生產過程的多發氣相沈積反應器。該腔室適用於薄膜沈積在基板上的應用。利用電子回旋共振（ECR）等離子體源技術，實現沈積速率高、均勻性好的均勻底物。此外，AMAT P-5000反應堆旨在提供精確的溫度控制，使用戶能夠在基板之間達到均勻的溫度，這是對材料特性的一致要求。APPLICED MATERIALS P 5000反應器是一種單晶圓多過程模塊，配有離子束增強（IBE）、濺射沈積和ECR等離子體蝕刻組件。這些功能的存在簡化了兩步流程的組合，為用戶提供了更大的靈活性。AMAT P5000的ECR等離子體源是低溫沈積過程的理想選擇，也是處理敏感易碎基板而不會引起熱損傷的理想選擇。它為用戶提供了包括高沈積速率、低等離子體密度和精確可控性在內的過程控制屬性的組合。此外，ECR等離子體源的高均勻性和可控性使其成為薄膜沈積過程的理想選擇。反應堆中P-5000 IBE源與ECR等離子體源同時工作，允許用戶同時沈積和蝕刻。這使用戶能夠在一個步驟中完成沈積和蝕刻過程,從而提高整個過程的生產率。AMAT P 5000反應器也可用於先進的濺射沈積過程。它的濺射過程對線性和非線性材料沈積都是有效的，精確地包含在腔內。濺射沈積法對於創建十納米或以下的層厚度是有效的，也可用於創建優越的材料均勻性。最後,APPLIED MATERIALS P5000反應堆還配備了多過程模塊（MPM）。MPM模塊的設計使薄膜，如透明氧化物和金屬的高級沈積。此外，MPM能夠進一步減少基板對基板溫度的變化，從而能夠生產可靠和高性能的產品。綜上所述,應用材料P-5000反應堆是一種功能強大、可靠的裝置.AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000憑借其ECR等離子體源技術、實現精確溫度控制的能力和單步組合多過程的能力,非常適合各種半導體和光電制造任務。