二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #177998 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 177998
晶圓大小: 8"
CVD system, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應堆是為等離子體增強化學氣相沈積(PECVD)設計的超高真空沈積(UHVD)設備。它是當今先進的半導體制造中使用的一種工具,使薄膜的沈積能夠用於生產半導體、顯示器和消費產品中使用的其他器件。該系統在沈積介電膜和金屬膜方面具有優異的性能,適用於各種應用。AMAT P-5000反應堆設計用於快速高效的UHVD工藝能力,使用戶能夠在不產生雜質或沖突的情況下精確控制成分的情況下沈積薄膜。它具有出色的均勻性、步長覆蓋率和厚度控制,是當今復雜電子設備生產的關鍵特征。此單元具有高級內部優化過程,可將關鍵過程參數保持在最佳級別。它利用高效的電容耦合功率單元,確保功率的均勻分配,以促進高沈積速率。應用材料P 5000反應堆具有多個場式電感耦合等離子體源,能夠提供高達1瓦的射頻功率。它還提供精確的溫度控制,範圍在-150至600攝氏度之間。這臺機器包括一個內置的診斷溫度控制器,它提供了工藝溫度的精確測量。使用者也可以手動調整環境來量身定制每一個膠片沈積。P 5000反應堆提供先進的安全特性,包括一個自動壓力調節器和一個惰性氣體毯子。它采用遠程報警和自動關閉功能設計,確保工具的安全運行。P-5000反應堆具有特殊的多功能性,因為它能夠沈積電介質、金屬和氮化物、氧化物和聚合物。它非常適合於光致抗蝕劑的沈積和半導體器件的制造。這一資產也適用於沈積鉑金屬,這在電線和接觸過程中是必不可少的。總體而言,P5000反應堆是一個先進可靠的模型,提供卓越的過程控制和性能。其卓越的特性和功能使其成為當今復雜應用程序的理想工具。
還沒有評論