二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #188546 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是專門為生產半導體和光伏器件而設計的反應堆。它是一種反應性離子蝕刻（RIE）和濺射工藝設備，能夠使用多種材料。AMAT P-5000反應器由真空室、蝕刻氣體分配歧管、氣體匹配系統和控制計量設備組成。腔室采用不銹鋼墻建造，內部采用非金屬材料制成，熱穩定性高。蝕刻氣體分配歧管裝有一系列閥門和噴嘴，便於精確蝕刻。APPLICED MATERIALS P 5000反應堆能夠在高壓和低壓條件下運行，最大壓力範圍為1-10 Torr。溫度控制是通過熱電偶實現的，而質量流控制器則管理蝕刻過程的精確化學。該裝置允許快速調整反應堆參數和精確控制蝕刻過程。AMAT P 5000反應堆裝有數字控制機器，以提高精度，允許對蝕刻過程進行精確控制。由於其先進的氣體混合資產，該工具能夠提供高的清除率，從而在整個反應室中提供精確、均勻的氣體流動。該模型還具有能產生高活動性氧氣和氮氣等離子體的等離子體發生器。這提供了先進的蝕刻速率控制,允許精確刪除小至0.5 um的功能。P5000反應堆能夠處理各種材料，包括金屬、矽、和散亞胺。其強大的離子蝕刻允許蝕刻工藝的微調，允許精確的通量控制和特征寬度控制。該設備提供蝕刻氣體的選擇，允許精確選擇蝕刻種類，蝕刻速度從0.3微米到50微米不等，視應用情況而定。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反應堆通過其先進的溫度、壓力和蝕刻氣體控制提供了高度的過程穩定性。此外，它的數字控制系統允許精確的蝕刻過程控制和數據記錄。該單元的設計便於訪問所有操作參數,包括溫度、壓力和流量。這樣可以在蝕刻過程中輕松更改這些參數。該機器還能夠監控各種參數，從而實現精確的蝕刻過程再現性。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反應堆是光伏和半導體器件高精度、高質量生產的理想工具。