二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #188664 待售
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ID: 188664
晶圓大小: 6"
SACVD system, 6"
(2) Chambers (configured for 3)
Storage elevator with (15) slots
PLIS
TEOS only
(2) OEM 12B power supplies.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種高效的金屬蝕刻反應器,旨在提供對材料蝕刻過程的精確控制。這種最先進的機器是一種先進的蝕刻工具,專門為耐用而設計,為高通量蝕刻要求提供了經濟的解決方案。廣泛應用於航空航天、汽車、半導體、薄膜、電子和醫療設備等制造工藝應用。AMAT P-5000提供高達每小時300個晶圓的快速處理能力。APPLICED MATERIALS P 5000利用專有的AMAT技術,在一系列工藝模塊中具有統一的蝕刻和非常低的蝕刻速率變化。AMAT獨特的蝕刻特性P5000提供非常均勻的蝕刻結果,幾乎沒有顆粒汙染或薄膜分層。該工藝包括獨特的氣體噴射設備,在正面和背面蝕刻應用中均能產生均勻的蝕刻效果。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000提供了廣泛的工藝選項。APPLIED MATERIALS P5000具有兩級旋轉晶片載波系統。這使得可以同時處理兩個晶片,允許在多個位置更快的等離子體處理。此外,P-5000還支持每個晶圓最多400秒的處理時間,從而允許復雜的蝕刻過程(如通過孔伸長)。AMAT P 5000還有一個高精度的等離子體輸送單元,提供對反應性離子蝕刻和化學蝕刻的精確控制。本機由專利等離子體源和專利先進蝕刻裝置組成,並對晶圓位置進行流體控制。這與煙囪和工藝氣體噴射器的精確同步相結合,可以實現精確的蝕刻速率和均勻的蝕刻深度。APPLIED MATERIALS P-5000旨在通過定制模塊降低成本並提高吞吐量。可選擇的模塊,包括氣體註入環模塊、反應性離子蝕刻模塊、濕蝕刻模塊和能量收集模塊,以提供過程靈活性並減少停機時間。該工具還具有若幹安全和保護功能,如集成脆化資產、先進的化學蝕刻跟蹤模型和碰撞加熱設備。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000是一種高度先進、可靠且具成本效益的蝕刻工具。它為各種制造工藝提供了高效、均勻的蝕刻結果、高處理速度和廣泛的工藝選擇。通過其可自定義的模塊,P 5000可以配置為滿足最苛刻的生產要求。
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