二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #189955 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應器是一種化學氣相沈積（CVD）系統,用於在各種基板上生長薄膜,作為集成電路、半導體器件和相關材料制造的一部分。AMAT P-5000專為納米級薄膜的高質量沈積而設計，具有亞微米線寬變化和大基板均勻性。APPLIED MATERIALS P 5000具有廣泛的工藝靈活性,可用於生產各種系統和組件,如邏輯、內存、顯示器和光伏設備。P5000系統的基本概念是位於等離子體源和基質室之間的沈積室。該工藝氣體被引入室內並進入等離子體源，在那裏被激發並分解成反應性物質，然後直接對準底物產生薄膜。與其他CVD系統相比,P-5000具有多種優勢,包括更高的吞吐量和改進的一致性和精度,從而提高了性能。其處理器控制的等離子體源具有獨立控制射頻功率和偏壓的能力，從而產生不同密度和能量的等離子體。這與有助於降低腔室中噪聲和幹擾的背景水平的雙屏蔽相結合，可以提高吞吐量和高質量的薄膜。AMAT P 5000還改進了溫度監測和控制，使得薄膜具有更好的均勻性成為可能。利用大面積加熱器和K型熱電偶進行精確的溫度控制和監測。此外，腔室的雙不銹鋼壁形成導電屏蔽層，允許更穩定的溫度，更低的熱梯度和更大面積的基板均勻性。APPLICED MATERIALS P-5000還提供了脈沖沈積選項,可降低沈積過程中基板上的溫度和應力,並顯著減少生長薄膜所需的時間。反應物源的脈沖是由處理器控制的等離子體源實現的，允許對薄膜沈積速率的精確控制，同時顯著降低能耗和基板損傷。所有這些功能都有助於將P 5000評估為同行中的優質CVD系統,為各種材料提供最佳的性能和吞吐量組合。這是一個理想的設備，對於那些尋找一個可靠和高效的CVD反應堆為他們的生產需求。