二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #192914 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種高效、柔性的等離子體化學氣相沈積（CVD）反應器，用於制造微電子元件。該系統在可靠的平臺上提供射頻、直流或脈沖等離子體沈積，直接沈積在各種基板、結構和構型上。AMAT P-5000反應器利用電子回旋共振（ECR）等離子體技術，能夠產生高能、40兆瓦（MW）的ECR放電。此外,APPLIED MATERIALS P 5000還配有加熱差速泵系統,可提供獨立攪拌、可編程的腔室壓力速率,並確保整個過程的均勻流動和均勻沈積。APPLIED MATERIALS P5000反應堆以閉環配置運行，將反應性氣體與等離子體功率結合，形成一個真空過程室，該室被泵壓連續排出。這種環境允許精確控制過程參數,如壓力、功率密度和溫度,從而確保可重復性和可重現結果。此外,APPLICED MATERIALS P-5000集成的計算機控制功能允許對腔室內的工作溫度和壓力進行實時監測和調整,以確保最佳反應條件,從而改善過程控制並縮短運行時間。P-5000中使用的工藝材料以多種形狀提供，包括晶圓、基材和顆粒，尺寸範圍從幾nm到多mm不等。因此，AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反應堆具有多用途能力，能夠提供幾乎適合任何類型陶瓷結構的沈積。AMAT P5000反應堆設計方便用戶，滿足高密度存儲器、復雜光網和微電路等多種應用的目標沈積水平。嚴格的設計確保了極好的一致性和過程可重復性，以保證質量和可靠性以及資源的有效利用。而且，AMAT P 5000可與多種氣體組合一起使用，從幹蝕刻到氧化物蝕刻，再到氮化物蝕刻，並有多種批式烤箱配置，允許各種材料錯綜復雜的沈積。總之，P5000 CVD反應器是一種先進的沈積工具，在可靠和高效的平臺上提供各種沈積能力和工藝材料。該系統旨在通過精確的過程控制確保結果的質量和可重復性，是研究和行業應用的絕佳選擇。