二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #200769 待售

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ID: 200769
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Etcher, 8" (4) Chamber system Chambers: A-D with gas panel (4 etch with transfer chamber); RF Chemicals: N2, Ethylene Glycol, He, Freon, O2, Argon, Carbon Tetrafluoride No pumps 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應器是用於薄膜沈積的化學氣相沈積(CVD)設備。它是一種多功能工具,能夠沈積各種材料,包括氧化物、氮化物和金屬。該系統利用化學工藝生產高質量薄膜,並提供工藝控制和靈活性。AMAT P-5000反應堆是最流行的CVD工具之一。該裝置是為研發和工業生產優質沈積物而設計的。APPLIED MATERIALS P 5000是一款全自動機器,具有用戶友好的圖形界面和觸摸屏技術。它設計用於潔凈室或小型實驗室。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反應堆工具由幾個組件組成。第一個也是最重要的是主反應堆,它位於真空室內。在主反應堆內部,加熱的氣體被輸送並反應生成所需的薄膜。二級系統包括用於主動氣體輸送的淋浴頭、用於加熱反應室的源等離子體,以及用於確定沈積物均勻性的各種探測器。應用材料P5000資產能夠進行廣泛的沈積過程。這些包括金屬、氧化物和氮化物的物理氣相沈積(PVD)。P5000反應器高效運行,能夠生產高均勻性、小應力的優質薄膜。該模型還提供了可編程配方和高級工藝控制,允許用戶自定義沈積參數以獲得可重復、高質量的結果。P5000反應器的用途也非常廣泛,可用於各種介質和導電材料的濺射沈積、半導體薄膜的化學氣相沈積以及聚合物和聚合物復合材料的氣相沈積等一系列應用。因此,它被廣泛用於生產集成電路和其他技術。總體而言,AMAT P5000反應器是一種功能強大、用途廣泛的薄膜沈積工具。它提供過程控制、靈活性和可重復的高質量結果。P-5000設備具有用戶友好的界面和自動化的操作,是優質膠片研發和工業生產的理想選擇。
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