二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293604716 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是專門為半導體生產而設計的物理氣相沈積（PVD）反應器。它通常用於關鍵應用，包括沈積具有出色均勻性的薄膜，高長寬比（AR）硬掩模噴墨圖樣，納米尺度特征的高密度鍍層，以及電阻記憶形成。它具有結構和微調復雜層堆棧的能力，在材料之間具有很好的間隙填充能力，並具有跨組合物的受控化學計量。AMAT P-5000具有先進的控制技術，為大批量生產運行提供一致的沈積結果。它是一種多用途設計，具有集成的集中過程控制（CPC）設備和強大的三軸閉環系統。CPC允許用戶除了控制濺射沈積速率之外，還可以優化工藝參數。其氣流模型為達到理想的沈積特性提供了標準的過程控制和可調節的流量。其熱過程控制單元可對每一層的放置、溫度和均勻性進行精確控制。APPLIED MATERIALS P 5000使用全軸濺射技術，比傳統的平面濺射技術更有效率，提供更一致的結果。共有四個陰極、兩個磁控管和兩個可旋轉的柱。這使過程工程師能夠跨多層優化過程控制,從而使最終結果具有高度的過程一致性和可重復性。該機還采用了一種「混合膜」沈積方法，其結果是具有低線寬偏置和平滑側壁的完全均勻的層。應用材料P5000可以處理50多種獨特的高科技材料,包括合金、陶瓷、聚合物和功能性氧化物。它與多種基材兼容，從標準的CMOS到復合半導體。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000還有一個集成的RTP和C4工藝工具，使用戶能夠實現位置精度和高表面輪廓，從而獲得最高質量的結果。總體而言，AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000是為高性能半導體生產而設計的可靠且先進的沈積工具。其直觀的過程控制，結合其精確的沈積技術，產生了高質量的結果，具有極好的均勻性和可重復性。P 5000為沈積過程提供了高效、經濟高效的解決方案。
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