二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609326 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反應器是一種專門為固體材料在各種基材上的薄膜沈積而設計的化學氣相沈積（CVD）設備。它用於半導體制造工藝中，以提供保形且均勻沈積的氮化矽或氧化矽等薄膜。AMAT P-5000反應器具有良好的均勻性和良好的壓力控制能力.這使得它適合多個過程和層層的沈積。應用材料P 5000反應堆由三個主要部件組成：CVD反應堆、真空系統和控制系統。CVD反應堆裝有靜電碎裂噴嘴，以確保前體材料的均勻噴霧。真空裝置包括一個渦輪分子泵、一個背襯泵以及進氣入口和出口。反應器的壓力由兩個質量流量控制器控制，兩個質量流量控制器連接到進氣入口和出口管。控制機由帶觸摸屏面板的PLC控制器、可編程邏輯控制器（PLC）和進氣流量控制器組成。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 CVD反應器在半導體工業中廣泛應用於氮化矽薄膜沈積、低k介電層、氮化鈦、氮化變更、鎢等多種應用。P-5000具有極好的沈積均勻性，這對於保形薄膜層的沈積特別有利，例如金屬化層用於電氣互連和封蓋層用於集成電路。它還提供了廣泛的工藝溫度（高達1100 °C），高通量，可用於先進的工藝，如原子層沈積（ALD）和熱穩定材料的化學氣相滲透（CVI）沈積。此外,該工具易於維護,並提供各種工藝參數,如壓力、溫度和流速,這些參數可以調整以優化工藝結果。總體而言，應用材料P-5000 CVD反應器是一種先進的資產，能夠實現高通量和沈積均勻、均勻的薄膜。它是一個可靠耐用的反應堆，適用於廣泛的半導體應用。