二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293610620 待售
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ID: 293610620
晶圓大小: 8"
優質的: 1995
CVD System, 8"
VME Type: Hard disk
21-Slots controller
SBC Board type: V21 Synergy
VGA Video board
Robot type: Phase-III
8-Slots storage elevator
No WPS sensor
Standard slit valve
Heat exchanger
Floppy Disk Drive (FDD): 3.5"
Standard cassette handler
I/O Wafer sensor
No Load lock slow vent
Load lock purge
Exhaust line type: Top, standard
Gas panel: (28) Gas lines
Chamber type:
Chamber A: Universal CVD
Chamber B: Standard CVD
Chamber A, B:
Process: PECVD Oxide
Process kit: Susceptor
MKS Manometer, 100 Torr
Clean method: RF Clean
Throttle valve: Direct drive dual spring W/C plug
Gas box MFC: AERA
Lamp driver
ENI OEM-12B RF Generator
RF Match: Phase-IV
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是專門為半導體工藝應用而設計的高級反應堆室。這個反應堆室提供了廣泛的特點，使它能夠在各種應用中提供卓越的性能和控制。反應器室由優質不銹鋼制成，經過氮化物處理，具有防腐性能。該腔室配置為AMAT P-5000晶片加工，半徑30.7cm，腔寬45.7cm，腔高39cm。APPLICED MATERIALS P 5000反應堆腔室利用完全自動化的過程控制系統，可以設置以允許廣泛的用戶定義參數，如腔室壓力、溫度、基板溫度、熱循環和氣流。流程控制系統還包括一個嵌入式數據記錄器,該記錄器存儲流程信息,可以檢索該記錄器以分析趨勢並確定特定應用程序的最佳參數。這樣可以提高處理結果的可靠性和準確性。反應堆室還包括一個有兩個獨立氣體歧管和調節器的氣體面板。氣體面板控制每個歧管提供的氣體以及氣體的壓力和流量。這使用戶能夠調整工藝條件以完成所需的結果。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反應堆室設計為安裝在沒有環境碎片、灰塵和其他顆粒的工作環境中。腔室配有靜態放電電纜，有助於最大限度地減少腔內的靜電積聚。該室配有自動氮氣凈化系統和進氣口。進氣口的設計允許將加熱的氮氣和其他加工氣體送入腔室。這有助於最大限度地提高流程效率和一致性。另外，P5000反應堆室設計方便，維護方便。該腔室在腔室內包括可拆卸的頂部和底部密封件，便於拆卸，以便定期清洗和維修腔室。這樣可以減少停機時間,並允許用戶繼續處理而不會中斷。AMAT P5000反應器室是一種先進可靠的半導體加工應用工具.其特點使其適合多種應用，維護簡單高效。通過適當的運行和維護，這種反應堆腔室有助於確保高質量的結果和可靠的長期運行。
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