二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293620909 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一種先進的等離子體反應器，旨在提高用於微電子和光電器件等應用的復合半導體材料的生產和純度。與傳統的低溫沈積技術相比,AMAT P-5000反應器利用獨特的高壓感應耦合等離子體（ICP）源,能夠生產性能更好、產量更高、性能更好的高質量半導體材料。APPLIED MATERIALS P 5000反應堆配備了獨特的專利設計，與傳統的ICP源相比提供了優越的工藝控制和一致性。等離子體源利用先進的電容器技術，為高密度、控制俯仰角的先進二維等離子體羽流打基礎。這提供了更廣泛的各種理想的工藝參數，並產生更高質量的材料。APPLIED MATERIALS P5000反應堆使用沈積工藝，能夠生成高質量、超純化合物半導體材料，如砷化銨（GaAs）、氮化氙（GaN）、磷化​​的氙的、InGaP等III-V材料。該反應堆使功能層能夠在冷卻至低至-20攝氏度（°C）的基板上進行氣相沈積，從而形成高質量的電接觸和灰度圖樣。這種先進的ICP源不需要添加蝕刻或清潔氣體來成功處理，而是依靠高沈積功耗來進行均勻的薄膜沈積。這一功能還減少了蝕刻和清潔過程造成的廢物和汙染。AMAT P 5000反應堆配有獨特的專利電源溶液，可調節沈積過程中的能量輸入，提供統一且可重復的沈積過程。系統對變化過程參數的敏感性使用戶能夠快速調整，快速優化沈積過程。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000反應堆的多功能性和工藝參數範圍使其能夠用於各種應用，如制造LED、集成電路和光學設備。P 5000反應堆以堅固的底盤建造，以達到最大可靠性。它有全面的日常操作和維護服務選項作為後盾。綜上所述，AMAT P5000是用於制造復合半導體材料的先進等離子體反應堆，用於微電子和光電子等應用。它具有獨特的高壓ICP源，能夠在冷卻的基板上沈積功能層的氣相，以及均勻和可重復的塗層。與傳統的低溫沈積技術相比,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000是實現高質量、超純、性能更好、產量更高、性能更好的材料的理想選擇。